sessile drop 法作为晟鼎精密接触角测量仪的基础测量方法，凭借操作简便、适配性强的优势，广泛应用于多个领域的表面性能检测。在材料研发领域，可测量静态接触角判断材料的疏水 / 亲水特性，例如通过水在高分子材料表面的接触角，区分材料是否具备超疏水性能（接触角＞150°）；在涂层工艺优化中，通过测量动态接触角（液滴铺展过程中的接触角变... 【查看详情】

快速退火炉通常能够提供广的温度范围，一般从几百摄氏度到数千℃不等，具体取决于应用需求，能够达到所需的处理温度范围升温速率：指系统加热样本的速度，通常以℃秒或℃/分钟为单位。升温速率的选择取决于所需的退火过程，确保所选设备的加热速率能够满足你的工艺要求。冷却速率：快速退火炉的冷却速率同样重要，通常以℃/秒或℃/分钟为单位。各大生产厂家采用的... 【查看详情】

在钙钛矿的应用中，如太阳能电池，其表面性质对于光吸收和载流子传输具有重要影响。较大的接触角可能意味着液体在钙钛矿表面上的润湿性较差，这可能会影响到光吸收层的稳定性和效率。具体来说，如果钙钛矿的接触角较大，那么水分或其他液体在钙钛矿表面上的浸润能力就会较弱，这有助于保护钙钛矿层，增强器件的稳定性。在某些应用中，较大的接触角可能是有利的，例如... 【查看详情】

接触角测量仪是东莞晟鼎精密仪器有限公司主营的表面性能检测设备之一，关键定位为材料科学、化工、电子等领域提供精细的表面润湿性能表征解决方案。其原理基于表面物理化学中的 “接触角现象”—— 通过捕捉液体在固体表面形成的接触角图像，分析固体表面的亲水性、疏水性及表面自由能，进而判断材料表面状态（如清洁度、涂层效果、改性程度）。该设备的关键价值在... 【查看详情】

便携式接触角量测仪用于测试样品表面润湿和吸收性能，结构紧凑，应用方便，能适用任何大小的表面，如工作台面、屋顶、汽车保险杠、玻璃瓶、金属罐等。测试过程非常简单，只需按一下测试键，一滴液滴就会掉下到测试样品的表面，同时仪器就自动捕获接触面的一系列图像，然后传输到电脑分析出两者的交互作用。便携式接触角量测仪可直接放置于样品上测量，因此无样品尺寸... 【查看详情】

captive bubble 法（悬泡法）是晟鼎精密接触角测量仪针对特殊样品（如多孔材料、粉末压片、透明薄膜）开发的测量方法，关键是将气泡捕获在浸没于液体中的固体样品表面，通过分析气泡与固体界面的接触角，间接获取固体表面的润湿性能，解决了 sessile drop 法无法测量多孔或高吸水材料的局限。其原理与 sessile drop 法相... 【查看详情】

在人工关节研发中，钛合金人工关节表面需涂覆羟基磷灰石（HA）涂层以提升骨整合能力，通过接触角测量仪测量模拟体液（如 PBS 缓冲液）在涂层表面的接触角，可评估涂层的亲水性（接触角＜60° 时骨细胞黏附效果优），指导涂层厚度与烧结工艺的优化。晟鼎精密的接触角测量仪针对医疗耗材检测，支持无菌操作（样品台可消毒）与生物相容性液体（如血液、细胞培... 【查看详情】

晟鼎精密接触角测量仪的样品台采用模块化设计，具备多维度调节功能与多种固定方式，可适配板材、薄膜、纤维、粉末压片等多形态样品，解决不同行业的样品检测需求，提升设备的适用性与灵活性。样品台的参数包括：X/Y/Z 轴调节范围 ±10mm，调节精度 ±0.005mm，可实现样品的精细定位；水平度调节功能（通过底部调平螺丝），水平度误差≤0.1°，... 【查看详情】

快速退火炉通过快速加热和冷却的方式，对材料进行热处理。这种处理方法能够在很短的时间内改变材料的结构，从而改善其性能。快速退火炉通常包括加热系统、温度控制系统和气氛控制系统。加热系统负责将材料迅速加热到所需温度，而温度控制系统确保炉内温度的均匀性和稳定性。气氛控制系统则用于控制炉内的气氛，以防止材料在热处理过程中氧化或污染。在半导体行业，快... 【查看详情】

接触角测量仪是一种用于测量液体与固体表面之间相互作用力的精密设备。这种作用力通常被称为接触角，是液体对固体表面的润湿性或排斥性的度量。在许多科学和工程领域中，接触角测量仪都发挥着至关重要的作用，特别是在界面化学研究领域。接触角测量仪的重要性该仪器的主要功能是测量和分析液体与固体表面之间的相互作用。这种相互作用对于理解许多物理、化学和生物过... 【查看详情】

静态接触角：当液体在固体表面达到平衡时，气液的界线与液固的界线之间的夹角称为接触角，此时为静态接触角；而动态接触角，有多种状态定义：其一，对于让处于非平衡状态的液滴在固体表面上自由铺展，动态接触角又分为前进角和后退角，这里可以适当附上前进后退角的概念，测试前进后退角是针对于疏水材料，亲水材料测试无意义。其二，液体在固体表面接触角随时间变化... 【查看详情】

一、快速退火炉的技术特点‌：1.极快的升降温速率‌升温速率可达150–200℃/秒，降温速率达200℃/分钟（从1000℃降至300℃），缩短工艺周期。采用红外卤素灯加热，配合镀金反射层或冷壁工艺实现高效热传导。‌高精度温度控制‌PID闭环控制系统确保温度精度达±0.5℃，均匀性≤0.5%设定温度，适合对温控要求严格的工艺如晶圆处理。‌多... 【查看详情】