CYTEC光稳定剂Chimassorb 944

UV-3853 CYASORB UV-3853受阻胺光稳定剂 氰特简介（SOLVAY） 五十多年来，氰特一直致力于高性能的光稳定剂和抗氧剂的研究与开发。 我们继续在全球范围内提供先进的 的解决方案，以满足日新月异 的聚合物添加剂市场的需求。在该领域，我们有众多的产品以供选 择。 CAS号 167078-06-0 热失重温度, T-10%(空气中升温速度 10°C/min) 熔点产品形态溶解度 (g/100g@25°C) PE: 扁丝、注塑制品、片材、茂金属。 PP: 膜、扁丝、纤维、注塑制品、 TPO。聚缩醛、尼龙、 ASA、 ABS、HIPS、 SAN和PUR。• 低分子量受阻胺，优异的对表面的稳定性• 与聚烯烃和苯乙烯聚合物良好的相容性• 与光吸收剂和其他受阻胺的强的互配性低色污、不影响初始色、不影响颜色、浅初始色光稳定剂。CYTEC光稳定剂Chimassorb 944

Chiguard 1108 紫外光稳定剂Chiguard 1108 是一种受阻苯甲酸酯类光稳定剂、抗紫外线自由基捕获剂，抗气熏褪色，低碱性。挥发性低、着色性小、化学稳定性好、可耐酸和碱。低化学活性使其适合于需加入卤素阻燃剂或过氧化物聚烯烃体系。 理化数据： 产品形态 白色粉末 熔点 60℃ 分子量 475 相对密度 1.07（25℃） 热失重温度T-10% 291℃ 功能 ： 1、是较佳的自由基捕获剂，具有很好的光稳定性能，同时还具有抗氧剂性能。 2、抗NOX气熏褪色，PH值中性。 3、与受阻胺的协同增效作用。 4、对PP和阻燃聚烯烃体系具有很有效稳定性。透明光稳定剂Tinuvin 1577一种为尼龙量身定做的独特的多功能助剂，（与尼龙分子识别而相容）。

TINIVIN 144与在‘建议用量’一栏里所建议的紫外光吸收剂配合使用后,会使涂料的耐候性有明显的提高. 协同作用会使涂料更好地发挥作用, 对于失光、开裂、起泡、脱落和变色均有很好的,光稳定剂TINIVIN 144 亦可抑制在高温烘烤过程中所引起的树脂黄变。 该光稳定剂可加于双层体系汽车漆中的中涂和罩光漆中,根据我们的经验,将光稳定剂加于较上一层涂层中能起到*的保护效果。 对于粉末涂料,光稳定剂TINIVIN 144 能起到使粉末涂料摩擦带电的作用, 该性能可带来如下好处: · 提高摩擦静电喷涂中上粉率,减少粉末的回收量 · 提高粉末涂料和工件之间的附着力。 · 提高喷涂中对工件的‘包敷性’。 光稳定剂TINIVIN 144 可能会和涂料体系中的酸性成分如:酸类催化剂发生反应。所以在此类条件下使用,请加以测试。 建议用量(相对于树脂固体份) 清漆和单层金属漆: 0.5-1% tinuvin 144 + 1-3% tinuin 1130或tinuvin 384 或tinuvin 928或tinuvin 400

Nylostab S-EED尼龙用多功能助剂 一种为尼龙量身定做的独特的多功能助剂，（与尼龙分子识 别而相容）。 > 改善尼龙熔融加工性能在尼龙中添加Nylostab可以提高其熔融加工性 > 增强长期热稳定性和光稳定性,这种高度相容、持久有效的添加剂可以赋予尼龙极大地稳定作用，这是其他传统光稳定系统所不能提供的。将Nylostab S-EED与oxalanilide UV 吸收剂结合使用可以明显提高尼龙的抗UV能力。 > 增强可染性Nylostab S-EED因具有碱性基团及相互作用，在复合金属染料或非金属酸性染料的染色过程中可以增强染料亲和力。从 而使染色更稳定、经济、生态相容，可深度染色(S-EED)。 > 例如可以稳定尼龙的熔体压力、使加工过程平稳、纤维纺丝时减少断丝。容易操作作为一种结晶型化合物，S-EED在高分子熔融加工或聚合过程中，可以按传统喂料方法和定量给料技术应用加料，也可以以尼龙预 备物形态应用（例如：尼龙中含30% Nylostab S-EED）。提高喷涂中对工件的‘包敷性’的光稳定剂。

Tinuvin 770 用一般的方法可将巴斯夫光稳定剂770加入聚合物中。巴斯夫光稳定剂770的热稳定性很好，并由于不吸收可见光谱，所以不会影响聚合物的颜色。巴斯夫光稳定剂770可连统光稳定剂B75,紫外线吸收剂系列，如Tinuvin326,等一同使用，产生协同效应，为塑料提供良好的光稳定性。 如想达到BASF光稳定剂770的较高功效，需要充分的塑胶基本稳定，以防止热氧降解对塑料造成之损坏。含硫稳定剂如硫代双丙酸酯，含硫酚类抗氧剂会影响巴斯夫光稳定剂770的效果。如制成品需要极高的光稳定性，颜料的影响也很重要，建议先进行小试。聚烯烃和苯乙烯聚合物良好相容性的耐候助剂。美国氰特光稳定剂Cyasorb UV-3853

纤 维：聚丙烯的抗紫外稳定作用。CYTEC光稳定剂Chimassorb 944

Chiguard 202 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202是高分子量的受阻胺光稳定剂(HALS)。它在聚合物中表现出优异的相容性和抗萃取性。 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202的特点之一是分子量分布非常窄,这使得在加工和使用中表现出一致的效果。 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202综合了各种高分子量HALS的优点。它为聚合物提供较高的光/热稳定性,同时改善其辅助性质,如增强颜料的色度。 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202:嵌段齐聚的受阻胺光稳定剂 基本特性: 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202的特点之一是分子量分布非常窄,这使得在加工和使用中表现出一致的效果。 产品性状: 透明、淡黄色药片状颗粒 融 程:120 - 150℃ 闪点:未测试 比重(20℃):1.01 g/cm3 蒸气压(20℃):7E-10 Pa (外推)CYTEC光稳定剂Chimassorb 944

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