无需投加化学药品，可连续生产高纯度水 应用IONPURE LX 技术在生产高纯水过程中，无需投加有害的再生化学物，不存在废水中和问题，因此可连续生产，同时降低了成本。其通常用来进一步去除反渗透产品水中残留的二氧化碳、盐、硅、硼和有机碳化物（TOC）。 IONPURE LX 模块使用离子滲透膜、离子交换树脂以及电流来连续地生产高纯度水，无需为装置的再生而停机。当注入的反渗透产水当量电导率小于40µs/cm 时，LX系统的除盐率可达到99％以上，根据不同的应用，可生产电阻率在10-18MΩ•cm之间的更高质量的水。 主要供货型号：(配套电源供应) IP-LXM45Z ,IP-LXM30Z, IP-LXM24Z ,IP-LXM18Z ,IP-LXM10Z ,IP-LXM04Z 美国IONPURE EDI模块上海纯超环保购买品质有保证。美国IONPURE EDI模块种类
美国IONPUREIP-LXM30Z模块不需要化学再生,可连续运行,进而不需要传统水处理工艺的混合离子交换设备再生所需的酸碱液,以及再生所排放的废水。其主要特点如下:
美国IONPUREIP-LXM30Z模块的净水基本过程
·连续运行,产品水水质稳定
·容易实现全自动控制
·无须用酸碱再生
·不会因再生而停机
·节省了再生用水及再生污水处理设施
·产水率高(可达95%)
·无须酸碱储备和酸碱稀释运送设施
·占地面积小
·使用安全可靠,避免工人接触酸碱
·降低运行及维护成本
·设备单元模块化,可灵活的组合各种流量的净水设施
·安装简单、费用低廉
·设备初投资大 四川供应美国IONPURE EDI模块供货商美国IONPURE EDI模块上海纯超环保品质保证。
启动清洗泵运行50分钟，运行流量和压力为正常运行状态，最小流量可以为EDI正常运行时流量的一半。检查清洗过程管道无泄漏。
排掉清洗水箱内消毒液，并用RO水冲洗EDI出水至电导率降至100μs/cm以下。
4．碱洗
1）配制5%NaCL+1.2%NaOH溶液：将1200LRO水冲入清洗水箱中，加入60KgNaCL和14.4KgNaOH，并搅拌均匀使其完全溶解（可启动清洗泵循环搅拌）。
2）启动清洗泵，流量大约45T/h,压力大约为0.2MPa,循环50分钟，停止清洗泵。
3）冲洗排掉清洗水箱内清洗液，用RO水冲洗EDI，如清洗后封存，不要冲太彻底。
IonpureIP-LXM30Z EDI模块技术的市场占有率目前正迅速地扩大，它如同RO的早期市场开发一样，其***的销售策略已经赢得了大量的供应商，并获得了一批可为用户提供服务的地方**。接下来就由小编一一为大家解析吧！一、IonpureIP-LXM30Z EDI模块市场
目前世界上有许多水处理公司可以销售RO－EDI系统，任何一个有名的化学水处理设备供应商（或作为水处理系统的咨询顾问），都会一致地将EDI视为那些要求降低酸碱使用的客户的一个解决方案。
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EDI电除盐模块清洗及消毒模式
•直通逆流（低及高pH值都可）再循环（氧化剂）
•可选清洗模式: 再循环,或直通,顺流(低及高 pH值都可)
步骤
注意: 以下列出的流速为直通情况。再循环清洗及消毒过程在通常情况下都以相同流速进行。
•步骤 1. 氯化钠 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)
•步骤 2.
a) 低pH值: 盐酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)
或
b) 高pH值: 氢氧化钠NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)
或
c) 氧化剂: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +过氧化氢H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)
•按照说明书配制用于商业浓度的RO消毒溶液（阅读上面所提的清洗化学品规范要求）。总体来说，浓水为已用水按1：100的比例稀释过。
• (*按照步骤 2a或 2b 步骤 2c后不要求.)
氯化钠 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)
•步骤 4.水冲洗: 将RO产水水质的水引入浓水管线环中直到产水电导率>0.02 MO或等 同于进水(至少为 2 L (0.5 gal))
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3、原水水质的优劣程度，纯净水产量的大小直接影响RO膜的使用寿命，为保证RO膜正常工作，需要对RO膜进行定期维护，此项工作必须由专业人员或在专业人员的授意下完成，非专业人员或未征得专业人员授意不得擅自清洗、拆卸、对RO膜进行随意处理。如若非经本厂专业人员授意，随意拆卸高、增压泵，断水保护，反渗透系统等主机主要部件，造成损坏的，本厂概不负责。
4、设备闲置时，必须断水断电，放净设备内所有积水，设备不得在高温与零下温度的环境内放置。
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