超纯水设备基本参数
  • 品牌
  • 道盛禾
  • 型号
  • 齐全
  • 适用领域
  • 多种适用
超纯水设备企业商机

再生活化原理:当设备运行一段时间,树脂失效,此时需再生,使其恢复交换能力。注意事项:1.操作人员应具备纯水设备基础知识,掌握操作规程。2.本设备严禁超压负荷工作。3.电机应定期检查。4.长期闲置不用,应定期搅动,以免树脂发霉。●制备工艺1、采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理方式,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→阳床→阴床→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点半导体产业所要求的超纯水是100%的理论纯水,不含溶解在水中的离子类、有机物、活菌、微粒等。江苏超纯水设备注意事项

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采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备进行搭配的方式,这是一种制取超纯水工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的超纯水制备工艺,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点●技术特点1、第一种采用离子交换树脂其优点在于初投资少,占用的地方少,但缺点就是需要经常进行离子再生,耗费大量酸碱,而且对环境有一定的破坏。苏州道盛禾环保科技有限公司北京 EDI超纯水设备超纯水主要用于半导体行业。

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光学材料生产用超纯水设备水质手机面板、光学镜片、光学玻璃清洗对超纯水水质要求高,带电力离子和污垢会对镜片产生不可逆损害,终端水质要求≥17.5MΩ*cm(25℃)。三、光学材料生产用超纯水设备技术光电光学玻璃行业的超纯水设备主要是为玻璃清洗时给超声波提供超纯水,镀膜玻璃镜片清洗超纯水设备设计上,采用成熟、可靠、自动化程度高的两级RO+EDI+SMB除盐水处理工艺,确保处理后的超纯水水质出水电阻率达到18.2MΩ.cm。关键设备及材料均采用主流可靠产品,采用PLC+触摸屏控制,全套系统自动化程度高,系统稳定性高。

反渗透膜作为整套系统里一个非常重要的部件,更要更加细心的维护。在设计反渗透系统的时候,应该具备自动冲洗功能。在冲洗的时候,压力应该不高于3公斤,流速较快。以冲走膜片表面的污物。超纯水设备44、反渗透主机要定期保养。55、精密过滤启动前要排除过滤器中的空气。66、检查和调整必要的零部件,调动整个运动部件的运动行径,并经常检查或更换易损件。77、精密过滤启动之后才可以调节压力阀门,并且及时查看压力仪表,发现异常时应该及时停机。超纯水设备可以提供低总氮的水供应。

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全自动双级反渗透+EDI+抛光混床是当今的超纯水处理技术,而EDI是超纯水制取设备中的总要组成部分。到目前为止,还是有少许的厂家还使用混床制取超纯水,混床超纯水设备比较大的优势就是前期投资少,除此之外,无法与EDI超纯水设备的突出性能优势相比较。为了让用户更简单明了的知道EDI超纯水设备系统的好处优势,水处理之家为您解析EDI超纯水设备7大性能优势。1无化学污染持续的树脂电解再生使得无需腐蚀性很强的化学品;如果前级RO系统运作正常,则极少需要清洗。如异常E-Cell的内部设计足以应付周期性的化学清洗;超纯水设备可以提供纯净的水源。北京 EDI超纯水设备

超纯水设备是采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法。江苏超纯水设备注意事项

◆半导体制造需要接近理论纯水的水理论上纯水在25°C下的电阻率为18.24MΩ·cm,电导率为0.05482μS/cm。该电导率的值为H20+OH-(公式为2H20=H3O+OH-)即,除了氢离子和氢氧根离子以外,没有任何电解质,这是因为水本身的解离。对超纯水的要求是,电阻率至少与理论纯水的电阻率非常接近。实际上,高集成度半导体制造工艺所要求的水质电阻率高达18MΩ·cm以上。例如,在水中溶解1mg/L的Fe离子,其电阻率就会下降到约17MΩ·cm,所以溶解物质的浓度在μgg/L(ppb)的超纯水中也会出现问题,随着半导体产业的发展,水质要求是越来越严格。江苏超纯水设备注意事项

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