首页 >  环保 >  医用超纯水设备维修 欢迎来电「硕科环保工程设备供应」

超纯水设备基本参数
  • 品牌
  • 翮硕,硕科
  • 型号
  • SK0003
  • 适用领域
  • 电子工业,化工,电镀,医药,食品饮料,多种适用
  • 加工定制
超纯水设备企业商机

    电子工业超纯水设备工艺及使用注意事项。高纯水又名超纯水,是指化学纯度极高的水,其主要应用在生物、化学化工、冶金、宇航、电力等领域,但其对水质纯度要求相当高,所以一般应用比较普遍的还是电子行业。在超纯水设备的生产过程中,水中的阴阳离子可用电渗析法、反渗透法及离子交换技术等去除,水中的颗粒一般可用超过滤、膜过滤等技术去除;水中的细菌,目前国内多采用加药或紫外灯照射或臭氧杀菌的方法去除;水中的TOC则一般用活性炭、反渗透处理。在高纯水的应用领域中,水的纯度直接关系到器件的性能、可靠性,因此高纯水要求具有相当高的纯度和精度。 锂电新能源超纯水设备厂家哪家好?医用超纯水设备维修

医用超纯水设备维修,超纯水设备

    EDI超纯水设备的基本工作原理。EDI是一种将离子交换技术、离子交换膜技术和离子电迁移技术(电渗析技术)相结合的纯水制造技术。该技术利用离子交换能深度脱盐来克服电渗析极化而脱盐不彻底,又利用电渗析极化而发生水电离产生H+和OH-,这些离子对离子交换树脂进行连续再生,以使离子交换树脂保持很优状态。EDI膜堆主要由交替排列的阳离子交换膜、浓水室、阴离子交换膜、淡水室和正、负电极组成。离子交换树脂充夹在阴阳离子交换膜之间形成单个处理单元,并构成淡水室,单元与单元之间用网状物隔开,形成浓水室。在直流电场的作用下,淡水室中离子交换树脂中的阳离子和阴离子沿树脂和膜构成的通道分别向负极和正极方向迁移,阳离子透过阳离子交换膜,阴离子透过阴离子交换膜,分别进入浓水室形成浓水。同时EDI进水中的阳离子和阴离子跟离子交换树脂中的氢离子和氢氧根离子交换,形成超纯水(高纯水)。超极限电流使水电解产生的大量氢离子和氢氧根离子对离子交换树脂进行连续的再生。传统的离子交换,离子交换树脂饱和后需要化学间歇再生。而EDI膜堆中的树脂通过水的电解连续再生,工作是连续的,不需要酸碱化学再生。制备饮料超纯水设备维护保养内容硕科生产超纯水设备产品性能好,质量可靠。

医用超纯水设备维修,超纯水设备

    锂电池行业用超纯水包括蓄电池生产用超纯水,锂电池生产用超纯水,太阳能电池生产用超纯水,蓄电池格板用超纯水。电池中电解液的配备对纯水要求十分严格,通常要求水的电导率在(电阻率在10兆欧姆)以上,传统用来制备电池用超纯水的工艺是常采用阴阳树脂交换设备,该工艺的缺点在于阴阳树脂在使用一段时间以后要经常再生。随着工业膜分离技术的不断成熟,现在常常采用反渗透膜法水处理工艺,或者是采用一级反渗透后面再经过离子交换混床(或电去离子EDI)工艺来制取超纯水。本纯水系统设计结合化工行业用纯水的要求,制定适合在锂电池行业使用的纯水系统。锂电池行业制备超纯水的工艺大致分成以下几种工艺:1、采用离子交换方式流程如下:市政自来水→源水增压泵→多介质过滤器→精密过滤器→阳树脂交换床→阴树脂交换床→混合树脂胶换床→微孔过滤器→超纯水用水点2、采用反渗透+混床方式流程如下:市政自来水→源水增压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透主机→中间水箱→增压泵→混床→微孔过滤器→超纯水用水。

      半导体芯片超纯水设备。半导体芯片用水主要在于前端晶棒硅切片冷却用水,基板晶圆片检测清洗用水,中段晶圆片溅镀、曝光、电镀、光刻、腐蚀等工艺清洗,后段检测封装清洗。LED芯片主要是前段在MOCVD外延片生长用水,中段主要在曝光、显影、去光阻清洗用水,后段检测封装用水。同时,半导体行业对TOC的要求较高。设备优点:采用反渗透作为预处理再配上离子交换其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高,但离子再生周期相对要长,耗费的酸碱比单纯采用离子树脂的方式要少很多。但对环境还有一定破坏性。 电子半导体超纯水设备厂家哪家好?

医用超纯水设备维修,超纯水设备

    工业edi超纯水设备的特点以某水处理厂家的工业edi超纯水设备为例进行说明。1、稳压范围宽,输入电压变动±20%仍可正常使用。2、效率高,产品具有功率因素校正电路,功率因数可达0.98以上。3、输出电压电流无级连续可调,稳压稳流自动切换。4、负载由小至大的稳流变化小于0.1%。5、安全性能高,输出端可任意短接不会造成机器损坏,且短接电流可连续调整。6、采用先进的高频脉宽调制技术,具有稳定度强、精度高,体积小、重量轻、功耗低等特点。硕科智能化超纯水设备生产。医用超纯水设备维修

工业超纯水设备找硕科环保工程设备,超纯水设备生产厂家。医用超纯水设备维修

多晶硅超纯水设备主要用在多晶硅片清洗中,多晶硅片,半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于去除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等,严重影响少数载流子寿命和表面电导;碱金属如钠等,引起严重漏电,颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等,会导致各种缺陷。针对多晶硅加工工艺需求和当地水源情况,可采用工艺流程:ASS+UF+1RO+2RO+EDI+SMB或MMF+ACF+1RO+2RO+EDI+SMB工艺流程,硕科环保采用国内先进设计理念,确保系统设备产水达到标准。 医用超纯水设备维修

与超纯水设备相关的文章
与超纯水设备相关的问题
与超纯水设备相关的搜索
信息来源于互联网 本站不为信息真实性负责