第二种采用反渗透作为预处理再配上离子交换设备,其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高,但离子设备再生周期相对要长,耗费的酸碱比单纯采用离子树脂的方式要少很多。但对环境还是有一定的破坏性。3、第三种采用反渗透作预处理再配上电去离子(EDI)装置,这是目前制取超纯水经济,环保用来制取超纯水的工艺,不需...
超纯水设备的使用离子交换混床是通过离子交换树脂在电解质溶液中进行的,可去除水中的各种阴、阳离子,是目前制备超纯水工艺流程中不可替代的手段。离子交换器分为阳离子交换器、阴离子交换器等。当原水通过离子交换柱时,水中的阳离子和水中的阴离子(HCO3-等离子)与交换柱中的阳树脂的H+离子和阴树脂的OH-离子进行交换,从而达到脱盐的目的。阳、阴混柱的不同组合可使水质达到更高的要求,生产出达到更高标准的超纯水。离子交换法是目前国内外制水行业普遍采用的较为理想的方法,也是经济有效的化学法之一,离子交换是一种利用阴阳交换树脂对离子的选择性及平衡反应原理,去除水中电解质离子的技术。是一套完整成熟的制水工艺,现为广大用户认可。超纯水设备可以提供低总铬的水供应。宁波超声波清洗用超纯水设备
光学材料生产用超纯水设备概述光学材料生产用超纯水设备包括四个流程:洗涤、漂洗、脱水、干燥。因为洗涤过程分溶剂清洗和水基清洗,所以有不同的工艺:有行溶剂清洗、溶剂蒸汽干燥再进行水基清洗;也有行溶剂清洗,再用乳化剂溶解溶剂,再进行水基清洗的。利用流水将洗涤后镜片表面的洗剂和污物溶解、排除的过程称为漂洗。光学材料生产用超纯水设备水质:手机面板、光学镜片、光学玻璃清洗对超纯水水质要求高,带电力离子和污垢会对镜片产生不可逆损害,终端水质要求≥17.5MΩ*cm(25℃)。宁波半导体用超纯水原理“超纯水”是指与现实中能够制造的理论纯水接近的水。
业内表示,超纯水设备出现水垢后不仅会影响到超纯水设备的正常运行,也会影响到出水的水质,给人们使用设备带来了不便。那么,在使用过程中,我们应该怎么防止超纯水设备结水垢呢?据了解,超纯水设备在长时间使用的过程中,通过反渗透膜两侧的压力差作为动力,进行水交换,在水不断的交换的同时会导致大量的盐聚集,盐中含有大量的沉淀物质,时间长了就会发生结垢现象,结构严重就会纯净水的质量。因此,在使用的过程中我们要有效的预防这种情况出现。
全自动双级反渗透+EDI+抛光混床是当今的超纯水处理技术,而EDI是超纯水制取设备中的总要组成部分。到目前为止,还是有少许的厂家还使用混床制取超纯水,混床超纯水设备比较大的优势就是前期投资少,除此之外,无法与EDI超纯水设备的突出性能优势相比较。为了让用户更简单明了的知道EDI超纯水设备系统的好处优势,水处理之家为您解析EDI超纯水设备7大性能优势。1无化学污染持续的树脂电解再生使得无需腐蚀性很强的化学品;如果前级RO系统运作正常,则极少需要清洗。如异常E-Cell的内部设计足以应付周期性的化学清洗;超纯水设备可以提供低总银的水供应。
◆半导体制造需要接近理论纯水的水理论上纯水在25°C下的电阻率为18.24MΩ·cm,电导率为0.05482μS/cm。该电导率的值为H20+OH-(公式为2H20=H3O+OH-)即,除了氢离子和氢氧根离子以外,没有任何电解质,这是因为水本身的解离。对超纯水的要求是,电阻率至少与理论纯水的电阻率非常接近。实际上,高集成度半导体制造工艺所要求的水质电阻率高达18MΩ·cm以上。例如,在水中溶解1mg/L的Fe离子,其电阻率就会下降到约17MΩ·cm,所以溶解物质的浓度在μgg/L(ppb)的超纯水中也会出现问题,随着半导体产业的发展,水质要求是越来越严格。超纯水设备的使用年限是多久?宁波超声波清洗用超纯水设备
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铁锈胶体物质悬浮物色异味生化有机物当原水中硬度较高时,可选择全自动软水器,这样有效的保护了反渗透膜,从而延长了反渗透膜的使用寿命。2、反渗透主机主要由高压泵、膜壳、进口反渗透膜组件,在线仪表、控制电气等组成。只要膜的数量及泵的型号选型得当,反渗透主机脱盐率及产水量都能达到额定指标,出水电导率可保证在≤10us.CM以下,(原水电导率小于500us/cm,工作温度:1~40℃)3、后处理部分是对反渗透制取的纯水作进一步的深化处理以制取超纯水,通常是离子交换混床设备或EDI设备,根据客户要求,出水阻率可达到18.2MΩ.CM,如果是应用在直饮水工艺上,则加上杀菌装置即可,通常为紫外线杀菌器或者臭氧发生器,从而使生产出来的水达到直饮标准。宁波超声波清洗用超纯水设备
第二种采用反渗透作为预处理再配上离子交换设备,其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高,但离子设备再生周期相对要长,耗费的酸碱比单纯采用离子树脂的方式要少很多。但对环境还是有一定的破坏性。3、第三种采用反渗透作预处理再配上电去离子(EDI)装置,这是目前制取超纯水经济,环保用来制取超纯水的工艺,不需...
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