有危险的厂房与周围建筑物、构筑物应保持一定的防火间距。如与民用建筑的防火间距不应小于25m,与重要公共建筑的防火间距不应小于50m,与明火或散发火花地点的防火间距不应小于30m。有危险的厂房平面布置比较好采用矩形,与主导风向垂直或夹角不小于45º,以有效利用穿堂风,将性气体吹散,在山区,宜布置在迎风山坡一面且通风良好的地方。防爆厂房宜单独设置。如必须与非防爆厂房贴邻时,只能一面贴邻,并在两者之间用防火墙或防爆墙隔开。相邻两厂房之间不应直接有门相通,以避免冲击波的影响。有危险的设备尽量避开厂房的梁、柱等承重结构。防爆厂房内的高大设备应布置在厂房中间,矮小设备应靠外墙门窗布置,以免挡风。有危险的厂房、库房,宜采用单层建筑。实验室设计联系成都博一医药设计有限公司。四川净化工程设计有哪些品牌
洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间温度不宜超过25度,湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时,冷却水管壁上会结露,如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以。相对湿度越高,粘附的越难去掉,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产比较好湿度范围为35—45%。成都疫苗工厂设计厂房设计公司就找成都博一医药设计有限公司。
应该设立专门的物料入口,物料传递路线应该尽量缩短,物料在进入洁净区之前必须进行清洁处理。洁净区、人员净化区、物料净化区和其他辅助用房应该进行分区布置。同时,还应该考虑到生产操作、工艺设备的安装和维修、管线布置、气流流型以及净化空调系统等各种技术设施的综合协调。洁净厂房内应该尽量减少隔间的设置,但在以下情况下需要进行分隔:根据生产的火灾危险性分类,甲、乙类与非甲、乙类相邻的生产区段之间,或者有防火分隔要求的情况下。生产联系较少且经常不同时使用的两个生产区段之间也需要进行分隔。在满足生产工艺和空气洁净度等级要求的前提下,洁净厂房内各种固定技术设施(如送风口、照明器、回风口、各种管线等)的布置应优先考虑净化空调系统的要求。
单向流洁净室一般有两种类型,即水平流和垂直流。在水平流系统中,气流是从一面墙流向另一面墙。在垂直流系统中,气流是从吊顶流向地面。对要求洁净室的悬浮粒子浓度或微生物浓度更低的场合,就使用单向气流。以前称这类洁净室为“层流”洁净室。单向流和层流的名称均说明了其气流的状况:气流以一个方向流动(或是垂直的或是水平的),并以一般是0.3米/秒至0.5米/秒(60英尺/分钟至100英尺/分钟)的均速流过整个空间。由满布洁净室吊顶的高效过滤器向室内送风。气流有如一个空气活塞,向经室内,带走污染物,然后从地面排出。又在与外部的一些新鲜空气混合后,再循环至高效过滤器。洁净实验室设计选择成都博一医药设计有限公司。
洁净厂房备用照明的设置应符合下列要求:1.洁净厂房内应设置备用照明。2.备用照明宜作为正常照明的一部分。3.备用照明应满足所需场所或部位进行必要活动和操作的最低照度。洁净厂房内应设置供人员疏散用的应急照明。在安全出口、疏散口和疏散通道转角处应按现行国家标准设置疏散标志。在消防口处应设置红色应急照明灯。——通信洁净厂房内应设置与厂房内外联系的通信装置。洁净厂房内生产区与其它工段的联系,宜设生产对讲电话。洁净厂房根据生产管理和生产工艺特殊需要,宜设置闭路电视监视系统。洁净厂房的生产区(包括技术夹层)、机房、站房等均应设置火灾探测器。基因净化工程欢迎咨询成都博一医药设计有限公司。重庆单克隆抗体工程设计
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洁净厂房的平、剖面设计应考虑噪声控制要求。洁净室的围护结构应具有良好的隔声性能,并使各部分隔声量相接近。洁净室内的各种设备均应选用低噪声产品。对于辐射噪声值超过洁净室允许值的设备,应设置隔声设施(如隔声间、隔声罩等)。净化空调系统噪声超过允许值时,应采取隔声、消声、隔振等控制措施。洁净室内的排风系统除事故排风外应进行减噪设计。净化空调系统,根据室内容许噪声级要求,风管内风速宜按下列规定选用:总风管为6~10m/s,无送、回风口的支风管为4~6m/s,有送、回风口的支风管为2~5m/s。四川净化工程设计有哪些品牌