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去离子水基本参数
  • 品牌
  • 威立特
  • 产品名称
  • 去离子水
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 用途类别
  • 标准品
  • 产品性状
  • 液态
  • 化学式
  • H2O
  • 相对分子质量
  • 18
  • 有效成分含量
  • 100
  • 执行质量标准
  • GB/T11446.1-2013
  • 安全性及措施
  • 无毒无腐蚀性
  • 产品颜色
  • 无色
  • 包装规格
  • 25000
  • 厂家
  • 苏州威立特环保科技有限公司
  • CAS
  • 7732-18-5
  • 产地
  • 江苏
去离子水企业商机

鲎试剂复溶 用无热原的水按照鲎试剂说明书规定的体积准确复溶鲎试剂。一般是将鲎试剂小瓶轻轻振摇,使内容物充分溶解,复溶过程要小心操作,避免产生过多气泡,因为气泡可能会干扰后续的凝胶观察。 样品混合与孵育 取适量的纯化水样品(如 0.1 - 0.2mL)与复溶后的鲎试剂(如 0.1 - 0.2mL)混合在小试管中。使用移液器时要确保移液准确,并且将样品和试剂充分混匀,轻轻颠倒试管几次即可。 将混合后的试管放入预先设定为 37℃的恒温箱中进行孵育。孵育时间一般为 60 - 90 分钟,孵育过程中要保持恒温箱内温度稳定,避免频繁开门导致温度波动影响凝胶形成。去离子水在制药工艺中,可防止水中杂质与药物成分反应。江苏介绍去离子水检测

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小分子有机物:过滤系统可能无法完全去除一些小分子有机污染物。例如,对于一些极性较强的小分子有机物(如甲醇、乙醇等),活性炭的吸附效果有限,超滤和反渗透膜也可能有部分小分子有机物透过。这些小分子有机物可能来自工业污染、农业径流或水处理过程中的添加剂等,其中一些可能具有毒性或致性。 消毒副产物:如果在水处理过程中使用了消毒剂,如氯气,过滤后水中可能会残留消毒副产物。常见的消毒副产物包括三卤甲烷(THMs)、卤乙酸(HAAs)等。这些物质是消毒剂与水中有机物反应生成的,部分消毒副产物具有潜在的致性和致畸性。 颗粒物质和胶体 过滤后的水中可能还存在一些细小的颗粒物质和胶体。虽然大部分大颗粒物质可以被前置的 PP 棉过滤器等去除,但一些极细小的颗粒或胶体可能会通过后续的过滤设备。例如,一些金属氧化物胶体、黏土胶体等可能会残留在水中,使水产生浑浊现象,并且这些颗粒物质和胶体也可能会吸附其他污染物,如重金属离子或有机污染物,成为潜在的污染源。浙江本地去离子水项目在材料科学研究中,去离子水可避免离子杂质干扰材料性能。

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数据记录与报告 详细记录检测过程中的各种数据,包括样品信息(如来源、采集时间等)、鲎试剂信息(如品牌、批号、有效期等)、检测方法、检测结果(包括阳性 / 阴性判定或者内素的具体含量)等。按照规定的格式撰写检测报告,报告内容要准确、完整,以便于后续查阅和审核。 仪器和器具清洗 检测结束后,及时清洗使用过的仪器和器具。对于与样品和鲎试剂接触的器具,如试管、微孔板等,要先用适当的清洁剂清洗,去除残留的样品和试剂,然后用大量的无热原水冲洗干净,再后进行灭菌处理,以备下次使用。仪器也要按照操作手册进行清洁和维护,如动态浊度仪的反应池要清洗干净,防止残留物质影响下一次检测。

作为一种高纯度的水,在众多领域都有着至关重要的地位。它是通过离子交换树脂或其他先进的水处理技术,去除了水中几乎所有的离子杂质,如钙、镁、钠等阳离子以及氯、硫酸根等阴离子后得到的。与普通自来水相比,去离子水具有极低的电导率,这使得它在电子工业中成为不可或缺的材料。例如,在半导体制造过程中,哪怕是极其微小的离子杂质都可能影响芯片的性能和成品率,去离子水凭借其超高纯度,为芯片的精细加工提供了清洁无干扰的环境,有效保障了电子产品的质量和稳定性。在化学实验和分析领域,去离子水也是常用的溶剂和试剂稀释剂,其纯净的特性可以避免水中杂质与实验物质发生化学反应,从而确保实验结果的准确性和可靠性。制药行业同样对去离子水青睐有加,在药品生产过程中,从原料的清洗到药物制剂的配制,去离子水的使用有助于保证药品的纯度和安全性,防止因水中杂质而引发的药品质量问题。此外,在汽车电瓶的补充液、化妆品的生产等方面,去离子水也都发挥着重要作用,它以其的纯净品质,默默地为众多行业的高质量发展贡献着力量在化妆品的乳液产品中,去离子水可使乳液质地更细腻。

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制药行业 在制药行业,对于注射用水和纯化水,TOC 含量要求极为严格。因为有机碳杂质可能会影响药品质量和安全性。例如,在注射剂的生产中,水中过高的 TOC 含量可能会与药物成分发生反应,或者作为微生物生长的营养源,引发药品污染。所以,制药行业通常要求注射用水的 TOC 含量不超过 500μg/L,纯化水的 TOC 含量不超过 5mg/L。这些严格的标准是为了确保药品的纯度和稳定性,符合药品生产质量管理规范(GMP)的要求。 电子工业(半导体制造等) 半导体制造过程对纯度要求极高,水是半导体制造过程中清洗和蚀刻等步骤的关键材料。即使微量的有机碳杂质也可能导致芯片缺陷。例如,在光刻过程中,水中的有机碳可能会吸附在硅片表面,影响光刻精度。因此,电子工业中使用的超纯水要求 TOC 含量一般低于 1 - 10μg/L,以满足高精度芯片制造的需要。去离子水在化学合成的药物中间体合成中,可提升产品质量。浙江本地去离子水项目

与普通水相比,去离子水的酸碱度更接近中性且稳定。江苏介绍去离子水检测

检查微生物限度 原理:微生物是热源物质的主要来源之一,如细菌内素就是革兰氏阴性菌细胞壁的成分。如果纯水中微生物数量得到有效控制,在很大程度上可以推断热源物质也被有效去除。 操作步骤:可以采用平板计数法检测水中的细菌总数。将一定量(如 1mL)的处理后的纯水样品接种到营养琼脂培养基平板上,在适宜的温度(如 37℃)下培养 24 - 48 小时后,计数平板上生长的菌落数。如果菌落数低于规定的限度(如饮用水标准中细菌总数每毫升不超过 100CFU),说明微生物得到有效控制,热源物质可能已被去除。同时,也可以采用滤膜法,将一定量的纯水通过滤膜,然后将滤膜放在培养基上培养,计数滤膜上的菌落数来检测微生物数量。江苏介绍去离子水检测

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