等离子清洗机基本参数
  • 品牌
  • 达因特,晟鼎精密
  • 型号
  • SPA-5800
  • 用途
  • 工业用,医用,3c行业、显示行业、玻璃行业、新能源行业、汽车行业
  • 加工定制
  • 清洗方式
  • 等离子表面活化
  • 电源
  • 25-40KHz
  • 功率
  • 500-1000W
  • 外形尺寸
  • 580*480*150
  • 重量
  • 12
  • 产地
  • 广东东莞
  • 厂家
  • 晟鼎精密
等离子清洗机企业商机

在芯片封装技术中,等离子体清洗已成为提高成品率的必由之路。先进的倒装芯片设备在市场上越来越突出,微波等离子体工艺在穿透模具下面的微小间隙方面。所有表面,无论模具下的体积大小,都被完全调节。达因特生产的等离子体清洗机都能很好的处理,提供粘合性和显著提高的粘附速度。适用范围远远超出20x20毫米和50微米凸起的模具尺寸。用于显示器制造的大型基板的均匀等离子体清洗需要一个可扩展的系统概念。等离子体系统正是为这类应用而设计的,能够提供快速、均匀的清洗或剥离效果。等离子体过程得益于高的自由基浓度和等离子体密度以及低的过程诱导加热。良好的均匀性对于在单个基板上保持良好的过程控制以及运行到运行的重复性至关重要。等离子清洗机可以增强样品的粘附性、浸润性和可靠性等,不同的工艺会使用不同的气体。吉林真空等离子清洗机功能

等离子清洗机

等离子清洗机应用领域1.汽车行业:点火线圈骨架表面活化、汽车门窗密封件的处理、控制面板在粘合前处理、内饰皮革包裹、内饰植绒前处理等等;2.医疗行业:培养皿表面活化、医疗导管粘接前处理、输液器粘接前的处理、酶标板的表面活化等等;3.新能源行业:新能源电池电芯的表面处理、电池蓝膜的表面处理、电池表面粘接前的处理等等;4.电子行业:芯片表面处理、封装前的预处理、各类电子器件粘接前处理、支架及基板的表面处理等等;等离子清洗机设计的行业非常的大,在用户遇到,表面粘接力、亲水性、印刷困难、涂覆不均匀等等问题,都可以尝试等离子清洗机的表面处理,通过表面活化、改性的方式解决问题。山西宽幅等离子清洗机有哪些真空等离子适用于面积较大、形状复杂的材料清洗,可搭配多路工艺气体,定制真空等离子流水线设备。

吉林真空等离子清洗机功能,等离子清洗机

plasma等离子清洗机原理将产品放入反应腔体内部,启动设备,真空泵将开始抽气,腔体内部气压下降,同时维持放应真空度;启动等离子发生器,腔体内部电极间生产高压交变电场,工艺气体放应生成等离子体;等离子体与物体表面污染物碰撞、反应,生产挥发性物质,被真空泵抽走,从而达到清洁活化的目标。plasma等离子清洗机优势:1、反应过程无需水参与,避免湿法工艺处理后,需要干燥处理的麻烦;2、无需湿法工艺处理后,废水、废弃溶剂的处理,降低了成本;3、表面处理效果强,清洗的同时还能表面活化改性,提高粘合力;4、处理过程短,整个过程反应高效快捷,解决表面处理难题;

光刻胶的去除在IC制造工艺流程中占非常重要的地位,其成本约占IC制造工艺的20-30%,光刻胶去胶效果太弱影响生产效率,去胶效果太强容易造成基底损伤,影响整个产品的成品率。传统主流去胶方法采用湿法去胶,成本低效率高,但随着技术不断选代更新,越来越多IC制造商开始采用干法式去胶,干法式去胶工艺不同于传统的湿法式去胶工艺,它不需要浸泡化学溶剂,也不用烘干,去胶过程更容易控制,避免过多算上基底,提高产品成品率。干法式去胶又被称为等离子去胶,其原理同等离子清洗类似,主要通过氧原子核和光刻胶在等离子体环境中发生反应来去除光刻胶,由于光刻胶的基本成分是碳氢有机物,在射频或微波作用下,氧气电离成氧原子并与光刻胶发生化学反应,生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通过泵被真空抽走,完成光刻胶的去除。等离子物理去胶过程:主要是物理作用对清洗物件进行轰击达到去胶的目的,主要的气体为氧气、氩气等,通过射频产生氧离子,轰击清洗物件,以获得表面光滑的较大化,并且结果是亲水性增大。等离子处理能改变材料表面微观结构和化学性质。

吉林真空等离子清洗机功能,等离子清洗机

等离子处理机的应用领域:它具有广泛的应用领域,主要包括以下几个方面:表面处理:可以用于金属、陶瓷、塑料等材料的清洗、去污、活化、刻蚀等表面处理过程,提高材料的表面性能。材料改性:可以用于金属材料的渗碳、渗氮、渗硼等表面改性过程,提高金属材料的耐磨性、耐腐蚀性等性能。半导体制造:在半导体制造过程中具有重要作用,如晶圆清洗、薄膜沉积、光刻胶去除等过程都需要使用等离子处理机。微电子封装:可以用于微电子封装过程中的金属焊盘活化、绝缘层刻蚀等过程,提高封装器件的性能和可靠性。生物医学:可以用于生物医学领域的生物材料表面改性、细胞培养基制备等过程,提高生物材料的性能和生物相容性。晟鼎产品品质可靠,售后服务响应迅速及时。江西半导体封装等离子清洗机24小时服务

在光学镜片镀膜前清洗中,扮演关键角色。吉林真空等离子清洗机功能

半导体封装过程中,等离子清洗机扮演着至关重要的角色。在封装前,芯片表面往往会残留微量的有机物、金属氧化物和微粒污染物,这些污染物不仅影响芯片的性能,还可能导致封装过程中的失效。因此,清洁度成为了封装工艺中不可或缺的一环。等离子清洗机利用高能等离子体对芯片表面进行非接触式的清洗。在清洗过程中,高能粒子轰击芯片表面,打断有机物的化学键,使其转化为易挥发的小分子;同时,等离子体中的自由基与金属氧化物反应,将其还原为金属单质或易于清洗的化合物。此外,等离子体的高活性还能有效地去除微粒污染物,提高芯片表面的清洁度。相较于传统的湿法清洗,等离子清洗具有更高的清洁度、更低的损伤率和更好的环境友好性。它不需要使用化学试剂,因此不会产生废液,符合现代绿色制造的理念。吉林真空等离子清洗机功能

与等离子清洗机相关的**
信息来源于互联网 本站不为信息真实性负责