一氧化碳超高纯气体核磁共振成像

上海弥正深耕国产超高纯气体研发与生产，打破国际巨头在品类的垄断，为半导体产业链自主可控提供关键材料支撑。针对国内高度依赖进口的 7N 级电子级氟化物、硅烷等品类，公司通过自主研发攻克重心提纯技术，实现规模化量产，产品纯度达到国际先进水平，杂质控制精度进入 ppt 级别，并成功通过中芯国际、长江存储等头部晶圆厂的验证认证。相较于进口产品，公司产品在供应响应速度、成本控制及技术服务方面更具优势，可实现订单 48 小时内快速响应，交货周期缩短 50%，成本降低 20-30%。积极参与国家 “十四五” 新材料产业发展规划重点项目，推动超高纯气体国家标准的修订与完善，目前已主导或参与 3 项行业标准的制定。某半导体企业使用其国产替代型超高纯三氟化氮后，不仅摆脱了对进口气体的依赖，还将相关工艺的材料成本降低 25%，供应链稳定性明显增强，为实现芯片国产化提供了有力保障。超高纯气体采用不锈钢气瓶储存，防止运输过程中二次污染。一氧化碳超高纯气体核磁共振成像

上海弥正为高校、科研机构提供科研级超高纯气体供应服务，涵盖物理、化学、材料科学等多个研究领域，以 “高纯度 + 高稳定性” 助力前沿研究开展。可提供 5N-9N 级多种超高纯气体，包括稀有气体、活性气体、特种气体等，部分气体纯度可达 99.9999999%（9N 级），杂质含量控制在 ppt 级别，满足精密实验要求。提供小批量、多品种的灵活供应模式，小包装规格为 1L，支持单一气体与混合气体定制，混合气体配比精度达 ±0.01%。配备专业科研服务团队，可根据实验方案提供气体选择建议与使用指导，协助客户解决实验过程中的气体相关问题；同时提供快速配送服务，科研急需气体可实现 24 小时内送达。某高校材料科学实验室应用后，纳米材料制备实验成功率提升 40%，实验数据重复性达 98%；某科研机构使用后，精密仪器分析精度提高，研究成果发表效率提升，成为科研领域可靠的气体供应商。一氧化碳超高纯气体核磁共振成像超高纯氯气（纯度 99.99%）适配半导体刻蚀，准确去除硅基材料。

上海弥正推出行业的超高纯气体回收再利用系统，针对半导体、光伏等行业的工艺尾气，实现高效回收、提纯与循环利用，为客户创造经济与环境双重价值。该系统可适配三氟化氮、硅烷、氢气等多种气体，通过低温冷凝、吸附分离与精密过滤等多级处理工艺，将原本直接排放的工艺尾气提纯至 5N-6N 级纯度，回收利用率比较高可达 90%。以半导体刻蚀工艺中常用的三氟化氮为例，传统使用模式下利用率不足 50%，大量尾气被浪费并污染环境，采用该回收系统后，客户气体采购成本降低 40%，同时大幅减少温室气体排放。提供 “定制化系统 + 运维服务” 的整体解决方案，根据客户生产规模与气体种类，设计专属回收流程，配备专业团队负责系统安装、调试与定期维护，并提供回收气体的质量检测报告。某半导体代工厂应用该系统后，年节省气体采购费用超 600 万元，工艺尾气排放量减少 80%，顺利通过 ISO 14064 碳足迹核查，实现了经济效益与环保责任的统一。

上海弥正超高纯三氟化氮（5N 级纯度），是半导体等离子体刻蚀工艺的关键清洗气体，以 “高纯度 + 低污染” 助力芯片制程精细化。采用低温吸附与精馏提纯工艺，将杂质含量控制在 1ppb 以内，其中金属杂质与颗粒物杂质均≤0.1ppb，能准确匹配 7nm 及以下先进制程的刻蚀需求。其强氧化性可高效去除晶圆表面的硅化物、金属氧化物等残留沉积物，且反应产物易挥发，无需额外复杂清洗步骤，有效提升刻蚀工艺效率。配备特用环保处理系统，气体使用后可通过回收装置实现 67% 的再利用率，降低环境排放与使用成本，符合亚洲芯片代工厂的生态合规要求。某半导体代工厂应用后，晶圆刻蚀残留率从 0.8% 降至 0.05%，刻蚀工艺效率提升 15%，单晶圆制造成本降低 3%，同时满足 SEMI 国际半导体产业协会的环保与纯度标准，成为先进制程刻蚀工艺的推荐清洗气体。超高纯氖气纯度≥99.999%，用于霓虹灯填充与低温制冷领域。

上海弥正超高纯氖气（6N 级纯度），专为量子计算、氦氖激光器及高能物理研究等前沿领域打造，以 “纯度 + 极低杂质” 保障科技的稳定运行。采用深度低温精馏与高效吸附相结合的提纯工艺，将氧气、氮气、氢气等关键杂质含量分别控制在 100ppb、200ppb、50ppb 以下，水分低于 - 85℃，完全符合 GB/T 4843-2020 标准中对超高纯氖的严苛要求。在量子计算领域，其优越的化学惰性可构建稳定的量子比特运行环境，有效降低环境噪声对量子相干性的干扰，延长量子比特的退相干时间；在氦氖激光器中，作为重心填充气体，能明显提升激光光束的稳定性与单色性，减少因杂质导致的光束衰减。配备特用的超洁净气瓶与输送管路，内壁经电解抛光处理，避免颗粒物污染，确保气体在储存与输送过程中纯度无衰减。某量子计算研究机构应用后，量子比特相干时间提升 30%，实验数据重复性达 99%；某激光设备企业使用后，氦氖激光器使用寿命延长 2 倍，光束质量因子 M² 接近理想值 1.0，成为前沿科技研究的可靠支撑。超高纯三氟化氮（杂质≤1ppm）用作半导体清洗，高效去除光刻胶残留。江苏氧化亚氮超高纯气体生产厂家

超高纯氮气（纯度≥99.999%）用作半导体制造保护气，防止芯片加工时氧化。一氧化碳超高纯气体核磁共振成像

上海弥正针对半导体制造全流程，打造涵盖超高纯氮气、氢气、氩气、氟化物气体等多品类的定制化气体解决方案，覆盖晶圆清洗、刻蚀、沉积、掺杂等**工艺。所有气体纯度均达到 5N-7N 级别，其中用于光刻工艺的特种气体纯度高达 9N 级，金属杂质含量控制在 0.01ppb 以下，完全满足不同制程芯片的生产要求。提供从气体提纯、包装、运输到终端输送的全链条服务，配备痕量杂质检测实验室，每批次产品均通过 GC-MS（气相色谱 - 质谱联用仪）检测，确保各项指标达标；输送管道采用 316L 不锈钢材质，经电解抛光与钝化处理，内壁粗糙度≤0.2μm，避免颗粒产生与气体污染。某晶圆制造厂应用该解决方案后，整体工艺缺陷率降低 40%，设备维护周期延长 3 倍，年节约运维成本超 500 万元。根据 SEMI 数据，2023 年全球半导体用高纯气体市场规模达 58.7 亿美元，上海弥正凭借精细的工艺适配性与稳定的供应能力，成为国内多家晶圆厂的**供应商，助力半导体产业自主化发展。一氧化碳超高纯气体核磁共振成像

上海弥正气体有限公司是一家有着先进的发展理念，先进的管理经验，在发展过程中不断完善自己，要求自己，不断创新，时刻准备着迎接更多挑战的活力公司，在上海市等地区的电工电气中汇聚了大量的人脉以及**，在业界也收获了很多良好的评价，这些都源自于自身的努力和大家共同进步的结果，这些评价对我们而言是比较好的前进动力，也促使我们在以后的道路上保持奋发图强、一往无前的进取创新精神，努力把公司发展战略推向一个新高度，在全体员工共同努力之下，全力拼搏将共同上海弥正气体供应和您一起携手走向更好的未来，创造更有价值的产品，我们将以更好的状态，更认真的态度，更饱满的精力去创造，去拼搏，去努力，让我们一起更好更快的成长！