超高真空烘箱一、本产品广泛应用于航空、航天、电子、通讯等科研及生产单位。确定仪器仪表、电工产品、材料、零部件、设备等在低气压、高温单项或同时作用下的环境适应性与可靠性试验.二、主要技术指标:1、工作室温度范围:常温~+300℃用户使用温度260℃2、温度波动度:1.0℃(空载);3、温度偏差:常压温...
真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁处理,提高制品质量的目的。
二、设计特点
1、后门设计热风电机
2、降温时风机开启,同时两端降温封头开启,炉膛内产生如图所示的气体流向
3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换,达到快速降温的目的
三、技术指标
1、使用温度:1450℃;比较高温度:1500℃;
2、绝热材料:石墨纤维毯、石墨纸;
4、加热元件:石墨加热棒;
5、冷却方式:气冷 + 循环风冷降温;
6、控温稳定度:±2℃,具有PID参数自整定功能;
7、炉膛温度均匀度:±5℃(恒温1500℃);
8、气氛: 可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%;
9、极限真空: 10-3torr级;
10、抽气速率:空载下,30min达到10-2torr
11、升温功率:170kW;
12、升温速率:15℃/min(空载);
13、降温速率:1450℃至80℃,240分钟
14、腔体尺寸:1000*1000*1000mm(宽*深*高) 合肥真萍科技为您提供专业质量服务。不锈钢工业烤箱门把手

HMDS 预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。
增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。 做工业烤箱价格多少工业烤箱生产厂家哪家好?合肥真萍科技告诉您。

用途介绍:无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、***、船舶、电子、通讯等科研及生产单位,主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化,模压固烤、IC(晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别)、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干,电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。
1、技术指标与基本配置:
1.1使用温度:RT~260℃,极限温度:300℃;
1.2炉膛腔数:2个,上下布置;
1.3炉膛材料:SUS304镜面不锈钢;加热元件:不锈钢加热器;热偶:K分度
1.4温度和氧含量记录:无纸记录仪;
2、氧含量(配氧分析仪):
2.1高温状态氧含量:≤ 10ppm +气源氧含量;低温状态氧含量:≤ 20ppm +气源氧含量
2.2控温稳定度:±1℃; 2.3温度均匀度:±2%℃(260℃平台);
下面为大家简单介绍一下洁净烘箱
本产品是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,普遍应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。
技术指标:
1 无尘等级:Class100:(符合FED-STD 209E标准:0.3um≤300个0.5≤100个)
2温度范围:+60℃~ +250℃(极限温度350℃)
3温度均匀性:±2℃(空箱测试)
4温度精确度:±1℃(空箱测试)
5设备型号规格:
450*450*450450*600*450600*800*600600*700*600;700*900*700;700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;1000*1300*1000;1000*1400*1000;
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产品描述:真空干燥箱,是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿,使工作室内形成真空状态,降低水的沸点,加快干燥的速度。
特点:
1、长方体工作室,增加有效容积,微电脑温度控制器,精确控温。
2、双层玻璃视窗观察工作室内物体,一目了然。
3、箱体闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。
4、工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成,确保产品经久耐用。
5、储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行,所以不会氧化。
真空程序分段控制
该型号机型,抽真空过程可提供程序化编程,根据客户要求编辑设定真空值,保压时间值。可实现多段抽真空和保压编程。 合肥真萍科技的工业烤箱是否耐用?江苏工业烤箱的工厂
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真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜。
洁净节能氮气柜的温湿度记录功能:
2.5.1内建内存,可储存温度/湿度,收集时间1~240 分钟可自行设定。
2.5.2可利用RS232连接阜下载至计算机中读取。
2.5.3 品管记录格式设计,有助于内部记录追踪并可支持数据库档案格式。
洁净节能氮气柜的湿度警报系统:
1.6.1可设定启动警报的湿度值及条件,内配蜂鸣器(90分贝)及闪烁警示功能
1.6.2可另外选配积层式警示灯。
1.7、温湿度偏移校正功能:内建校正功能,确保显示准确度。
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合肥真萍电子科技有限公司创立于2010-04-14,是一家生产型公司。公司自成立以来,以质量为发展,让匠心弥散在每个细节,公司旗下[ "洁净箱", "干燥箱", "高温无氧烤箱", "隧道炉" ]深受客户的喜爱。公司秉持诚信为本的经营理念,在仪器仪表深耕多年,以技术为先导,以自主产品为**,发挥人才优势,打造仪器仪表质量品牌。公司自成立以来发展迅速,业务不断发展壮大,年营业额度达到500-700万元,未来我们将不断进行创新和改进,让企业发展再上新高。
超高真空烘箱一、本产品广泛应用于航空、航天、电子、通讯等科研及生产单位。确定仪器仪表、电工产品、材料、零部件、设备等在低气压、高温单项或同时作用下的环境适应性与可靠性试验.二、主要技术指标:1、工作室温度范围:常温~+300℃用户使用温度260℃2、温度波动度:1.0℃(空载);3、温度偏差:常压温...