高低温试验箱有哪些品牌

隧道炉适用于五金模具、航天航空、纳米材料、精密陶瓷、粉末治金、铁氟龙喷涂、五金、锂电池、化工、运动器材、汽车零配件、电机、化工、工业之烘烤、干燥、预热回火、退火、老化等用途。下面为大家介绍一下真萍科技隧道炉的产品特性。 1.采用智能型温度控制模块，PID自动演算，LED显示，配合SSR大功率可控硅输出，能精确控制温度之精细度； 2.分段控制（当到达设定温度时可任意关掉其中几段发热管，降低加热功率，其达到省电效果）； 3.内箱采用1.5mm厚SUS304#不锈钢(清洁无尘，防生锈、耐腐蚀)，外箱采用1.5mm厚Q235冷轧钢板(强度、塑性和焊接综合性能相当好)； 4.整机控制系统采用触摸屏加PLC程序控制，设备加热、运风、传动、自动门开关均采用智能控制，有效防止失误动作； 5.当实际检测温度超过超温保护温控器设定值时，自动切断加热电源，起到双重保护功能。合肥真萍科技试验箱诚信经营。高低温试验箱有哪些品牌

精密鼓风烘箱适用于电子元器件、橡胶、塑料、装饰材料等行业对温度均匀性要求比较严格的实验。真萍科技作为精密鼓风烤箱的质量原厂厂家，设备都是自主生产销售，质量可靠，品质保证，欢迎来电咨询。大家对精密鼓风烘箱有没有些许了解呢，下面小编就带大家走近精密鼓风烘箱，为大家介绍一下真萍科技精密鼓风烤箱的参数。 技术参数： 1.型号：CB-9023A 2.产品类型：液晶显示 3.电源电压：AC 220V±10%/50Hz±2% 4.控温范围：室温+10℃-200℃ 5.温度分辨率：0.1℃ 6.温度波动度：≤±0.2℃ 7.温度均匀度：≤±1.5% 8.输入功率：500W 9.工作室尺寸(mm)：300（宽）*300（深）*270（高） 10.载物托架：2块 11.定时范围：0-9999分钟高低温交变试验箱怎么样如有需要各种试验箱，欢迎致电合肥真萍科技咨询。

电热鼓风烤箱适用于各种产品或材料及电气、仪表、元器件、电子、电工及汽车、航空、通讯塑胶、机械、食品、化工、化学品、五金工具在恒温环境条件下作干燥和各种恒温适应性试验。下面为大家介绍一下真萍科技电热鼓风烤箱的可选择配件（需另外收费，订购时请注意）。 1.可编程液晶控制器，可实现升温速率可调和保温时间可调。 2.**限温控制器，可实现在主控制器失灵后设备升温过高的情况下立即切断加热。 3.无纸记录仪，通过USB接口将其记录的数据导入计算机可供分析、打印等，是有纸记录仪的更新换代产品，相当多八通道温度记录。 4.配RS-485接口，可连接计算机和记录仪，实现时时***工作状态。 5.温度测试孔，可实现不同测试线或仪器插入设备工作室内进行各种实验，测试孔孔径有φ25、φ50、φ80可选。 6.载物托架，烘箱设备标配是2个载物托架，客户可根据自身需求增配托架数量。

真萍科技洁净烘箱是参照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造，广泛应用于电子液晶显示，LCD,CMOS,IC，医药实验室等生产及科研部门。下面为大家介绍一下洁净烘箱的箱体结构。 1.烘箱总体由箱体部分，电气控制柜部分，电加热部分，风道部分，尘埃物过滤部分，N2 进气排气及风冷部分等组装而成，结构合理，功能实用。 2.外箱材料:外箱采用SS41#中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆可防止微尘。 3.内胆材料：采进口SUS304#2mm不锈钢板全周氩焊,并经碱性苏打水清洁有效的防止了机台本身灰尘的产生。 4.保温材料：采用正厂**玻璃纤维公司出品的100K级高密度保温板填充，有效的防止了热能浪费。 5.电热部分：采用进口覆套式电热器（SHEATHED HEATER）无尘无氧化电热发生器。 6.风道部分：整体结构采用了水平送风的方式由左向右送风后经美国进口H.E.P.A，(特殊风道设计)过滤效果可达99.99%,Class100。试验箱厂家直销定制，价格从优。

精密鼓风烘箱适用于电子元器件、橡胶、塑料、装饰材料等行业对温度均匀性要求比较严格的实验。 真萍科技精密鼓风烤箱采用进口液晶显示控制器，产品采用综合的电磁兼容设计和人性化的菜单设计，使得设备操作完全傻瓜化，控温效果较好。高亮度宽视窗液晶显示，示值清晰、直观。微电脑智能控制。设定温度和时间后，仪表自行控制加热功率，并显示加热状态，控温精确而稳定。超温报警并自动切断加热电源。 电器控制系统： 1.电气控制元器件均采用国内**品牌“正泰” 2.电气线路设计新颖，合理布线，安全可靠 3.箱体顶部为电气控制柜，方便于集中检查维修 安全保护系统： 1.超温报警 2.欠相缺相保护 3.过电流保护 4.快速熔断器 5.接地保护试验箱哪家好，推荐合肥真萍科技。高低温低压试验箱生产厂商

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本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱，首先简单介绍一下HMDS 预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。   增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。高低温试验箱有哪些品牌

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