工业烤箱基本参数
  • 产地
  • 安徽合肥
  • 品牌
  • 合肥真萍电子科技有限公司
  • 型号
  • 齐全
  • 是否定制
工业烤箱企业商机

真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜。

洁净节能氮气柜的氮气监控系统:

1.1、2.3” LED 大屏幕数字显示湿度/温度。

1.2 、温湿度显示值0.1%-99.9%RH,温度显示值0.1℃-60.0℃。

1.3 、温湿度收集采准确传感器,长距离传输无误差。

洁净节能氮气柜的湿度控制:

2.4.1利用湿度设定值来控制氮气流入,到达湿度设定值即停止进气,节省氮气耗用。

2.4.2湿度在1%-60%RH 可调整。


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下面为大家介绍一下高温无氧固化烘箱。

无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、***、船舶、电子、通讯等科研及生产单位,主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化,模压固烤、IC(晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别)、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干,电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。

1、技术指标与基本配置:

1.1使用温度:RT~260℃,极限温度:300℃;

1.2炉膛腔数:2个,上下布置;

1.3炉膛材料:SUS304镜面不锈钢;加热元件:不锈钢加热器;热偶:K分度

1.4温度和氧含量记录:无纸记录仪;

2、氧含量(配氧分析仪):

2.1高温状态氧含量:≤ 10ppm +气源氧含量;低温状态氧含量:≤ 20ppm +气源氧含量

2.2控温稳定度:±1℃; 2.3温度均匀度:±2%℃(260℃平台);


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真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜。

一、氮气监控系统:

1.1、2.3” LED 大屏幕数字显示湿度/温度。

1.2 、温湿度显示值0.1%-99.9%RH,温度显示值0.1℃-60.0℃。

1.3 、温湿度收集采准确传感器,长距离传输无误差。

1.4 、湿度控制:

2.4.1利用湿度设定值来控制氮气流入,到达湿度设定值即停止进气,节省氮气耗用。

2.4.2湿度在1%-60%RH 可调整。

1.5、温湿度记录功能:

2.5.1内建内存,可储存温度/湿度,收集时间1~240 分钟可自行设定。

2.5.2可利用RS232连接阜下载至计算机中读取。

2.5.3 品管记录格式设计,有助于内部记录追踪并可支持数据库档案格式。

1.6、湿度警报系统:

1.6.1可设定启动警报的湿度值及条件,内配蜂鸣器(90分贝)及闪烁警示功能。

1.6.2可另外选配积层式警示灯。

1.7、温湿度偏移校正功能:内建校正功能,确保显示准确度。

下面为大家简单介绍一下真萍科技的产品之一——洁净烘箱。

本产品是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,普遍应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。

技术指标:

可靠的测控系统

1温度控制装置:进口温控器,内置PID自动整定,斜率设定功能

2温度控制方式为SSR固态继电器功率调整输出,温度采集探头为特制铠装K型热电偶

3温度监控装置:采用六通道巡回检测 有纸记录仪,可将烤箱内实时环境温度进行检测打印。

完善的控制系统,及安全防护措施

1操作控制系统,采用精密电子仪器仪表结合电力拖动系统控制,更快速,更稳定。

2防护措施:紧急停止,超温保护,断线报警,相序保护,过载保护,短路保护,漏电保护,及电磁门禁保护等 合肥真萍科技工业烤箱值得推荐。

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真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜。

洁净节能氮气柜的温湿度记录功能:

2.5.1内建内存,可储存温度/湿度,收集时间1~240 分钟可自行设定。

2.5.2可利用RS232连接阜下载至计算机中读取。

2.5.3 品管记录格式设计,有助于内部记录追踪并可支持数据库档案格式。

洁净节能氮气柜的湿度警报系统:

1.6.1可设定启动警报的湿度值及条件,内配蜂鸣器(90分贝)及闪烁警示功能

1.6.2可另外选配积层式警示灯。

1.7、温湿度偏移校正功能:内建校正功能,确保显示准确度。


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真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁处理,提高制品质量的目的。

二、设计特点

1、后门设计热风电机

2、降温时风机开启,同时两端降温封头开启,炉膛内产生如图所示的气体流向

3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换,达到快速降温的目的

三、技术指标

1、使用温度:1450℃;比较高温度:1500℃;

2、绝热材料:石墨纤维毯、石墨纸;

4、加热元件:石墨加热棒;

5、冷却方式:气冷 + 循环风冷降温;

6、控温稳定度:±2℃,具有PID参数自整定功能;

7、炉膛温度均匀度:±5℃(恒温1500℃);

8、气氛: 可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%;

9、极限真空: 10-3torr级;

10、抽气速率:空载下,30min达到10-2torr

11、升温功率:170kW;

12、升温速率:15℃/min(空载);

13、降温速率:1450℃至80℃,240分钟

14、腔体尺寸:1000*1000*1000mm(宽*深*高) 大型工业烤箱门把手

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