隧道炉适用于五金模具、航天航空、纳米材料、精密陶瓷、粉末治金、铁氟龙喷涂、五金、锂电池、化工、运动器材、汽车零配件、电机、化工、工业之烘烤、干燥、预热回火、退火、老化等用途。作为隧道炉的供应商原产厂家,小编下面就为大家介绍一下真萍科技隧道炉的产品材质。1.箱体材质。外箱采用1.5mm厚度的Q235型...
真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜的氮气监控系统。 1.温湿度记录功能: 1.2内建内存,可储存温度/湿度,收集时间1~240 分钟可自行设定。 1.3可利用RS232连接阜下载至计算机中读取。 1.4品管记录格式设计,有助于内部记录追踪并可支持数据库档案格式。 2.湿度警报系统: 2.1可设定启动警报的湿度值及条件,内配蜂鸣器(90分贝)及闪烁警示功能。 2.2可另外选配积层式警示灯。 3.温湿度偏移校正功能:内建校正功能,确保显示准确度。合肥真萍科技为您提供存储柜相关专业解答。无锡存储柜维修

真空干燥箱是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿,使工作室内形成真空状态,降低水的沸点,加快干燥的速度。下面为大家介绍一下真萍科技真空干燥箱的特点。 1.长方体工作室,增加有效容积,微电脑温度控制器,精确控温。 2.双层玻璃视窗观察工作室内物体,一目了然。 3.箱体闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。 4.工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成,确保产品经久耐用。 5.储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行,所以不会氧化。 6.真空程序分段控制,该型号机型,抽真空过程可提供程序化编程,根据客户要求编辑设定真空值,保压时间值。可实现多段抽真空和保压编程。江西可移动存储柜合肥真萍科技为您提供质量的定制存储柜价格。

真萍科技洁净烘箱是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,广泛应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。下面为大家介绍一下洁净烘箱的箱体结构。 1.烘箱总体由箱体部分,电气控制柜部分,电加热部分,风道部分,尘埃物过滤部分,N2 进气排气及风冷部分等组装而成,结构合理,功能实用。 2.外箱材料:外箱采用SS41#中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆可防止微尘。 3.内胆材料:采进口SUS304#2mm不锈钢板全周氩焊,并经碱性苏打水清洁有效的防止了机台本身灰尘的产生。 4.保温材料:采用正厂**玻璃纤维公司出品的100K级高密度保温板填充,有效的防止了热能浪费。 5.电热部分:采用进口覆套式电热器(SHEATHED HEATER)无尘无氧化电热发生器。 6.风道部分:整体结构采用了水平送风的方式由左向右送风后经美国进口H.E.P.A,(特殊风道设计)过滤效果可达99.99%,Class100。
精密鼓风烘箱适用于电子元器件、橡胶、塑料、装饰材料等行业对温度均匀性要求比较严格的实验。下面为大家介绍一下真萍科技精密鼓风烤箱的箱体结构。 1.本设备由室体、加热系统、电气控制系统、送风系统、保护系统等组成。 2.箱体采用先进设备制作、业内**工艺制造流程、线条流畅,美观大方。 3.工作室材质为不锈钢SUS304材质,外箱材质为质量冷轧钢板,产品外壳采用环保金属漆喷制,整体设计美观大方,适合**实验室的颜色搭配。 4.工作室内搁架可随用户的要求任意调节高度以及搁架的数量。 5.工作室与外箱之间的保温材料为质量超细玻璃纤维保温棉,保温层厚度:>70mm, 隔温效果好,国内**,高性能的绝缘结构。从里到外有内腔、内壳、超细玻璃纤维、铝制反射铝箔片、空气夹层,内胆热量损失少。内胆外箱及门胆结构独特,极大减少了内腔热量的外传。合肥真萍科技的优势有哪些呢?听听小编为您介绍。

下面为大家介绍一下石墨盘**真空烤盘炉的用途和设计。 一、产品介绍 真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁处理,提高制品质量的目的。 二、设计特点 1.后门设计热风电机 2.降温时风机开启,同时两端降温封头开启,炉膛内产生如图所示的气体流向 3.通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换,达到快速降温的目的合肥真萍科技的存储柜,值得推荐。江西可移动存储柜
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本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱,首先简单介绍一下HMDS 预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。 增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。无锡存储柜维修
隧道炉适用于五金模具、航天航空、纳米材料、精密陶瓷、粉末治金、铁氟龙喷涂、五金、锂电池、化工、运动器材、汽车零配件、电机、化工、工业之烘烤、干燥、预热回火、退火、老化等用途。作为隧道炉的供应商原产厂家,小编下面就为大家介绍一下真萍科技隧道炉的产品材质。1.箱体材质。外箱采用1.5mm厚度的Q235型...