超纯水设备在光伏行业晶体管的应用
在光伏行业晶体管、集成电路生产中,纯水主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制,硅片氧化的水汽源,部分设备的冷却水,配制电镀液等。集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良,重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低,III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化,V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化,水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20%~50%) 会使P型硅片上的局部区域变化为N型硅而导致器件性能变坏。水中的颗粒(包括细菌)如吸附在硅片表面,就会引起电路短路或特性变差。 超纯化系统采用比较好质核子级抛光混床四柱树脂。超纯化处理系统的设置,使得水中离子被全部除去。云南制药纯水设备公司

良好的纯化水设备系统是经过一体化三维设计、人机工程学人性化设计以及模块化设计的,支持自动化控制,高效匹配企业的纯化水用水需求,更方便操作和维护,系统运作费用相对低,具有经济实用、节能环保的特点。目前,纯化水设备系统主要应用于生物制药、体外诊断试剂、医疗器械等行业。
纯化水设备常用的三种工艺,分别为预处理+双级RO工艺、预处理+单级RO+EDI工艺、预处理+双级RO+EDI工艺。客户根据原水水质来选择生产工艺,通常南方原水的电导率及硬度较好,可不采用EDI工艺,而北方原水的电导率及硬度偏高,可采用增加EDI工艺,来确保纯化水产水的水质。
北京光电行业超纯水设备耗材将一级RO泵,二级RO泵,EDI增压泵内空气排净。

成套工业纯水设备一般包括预处理系统、反渗透装置、后处理系统、清洗系统和电气控制系统等。预处理系统一般包括原水泵、石英砂过滤器、活性炭过滤器、软化器,精密过滤器等。其主要作用是降低原水的污染指数和余氯等其他杂质,达到反渗透的进水要求。预处理系统的设备配置应该根据原水的具体情况而定。 反渗透去离子水设备主要包括多级高压泵、反渗透膜元件、膜壳(压力容器)、支架等组成。其主要作用是去除水中的杂质,使出水满足使用要求。 后处理系统是在反渗透不能满足出水要求的情况下增加的配置。主要包括阴床、阳床、混床、杀菌、超滤、EDI等其中的一种或者多种设备。后处理系统能把反渗透的出水水质更好的提高,使之满足使用要求。 清洗系统主要有清洗水箱、清洗水泵、精密过滤器组成。当反渗透系统受到污染出水指标不能满足要求时,需要对反渗透进行清洗使之恢复功效。
印刷线路板超纯水设备概述
印刷线路板超纯水设备主要应用在印刷线路板制造和清洗,该设备采用反渗透技术和EDI技术相结合的制水工艺,保证设备的出水水质,出水电阻率可以达到18兆欧以上,符合印刷线路板等工业用水需求。
下面无锡绿禾盛带大家了解一下印刷线路板用超纯水设备。
印刷线路板超纯水设备技术参数
操作压力:3(Mpa)
水电阻率:5-18.25兆欧,出水量:1-100t/h
外形尺寸:设计而定(cm),电压:380(V)
水质:高纯水,功率:设计而定(w)
电导率:10us/cm,脱盐率:99.99(percent)
单机出力:1-100t/h 应当按照操作规程对纯化水、注射用水管道进行清洗消毒,并有相关记录。

反渗透设计要点
●影响限制值的因素 给水水质及污染程度 膜元件有效膜面积 膜元件的结构(浓水流道宽度等) ●设计合理的回收率 (回收率的高低直接影响浓水量及浓水水质哦) ▶海水淡化对回收率的限制 高TDS导致高渗透压 限制回收率35% ~ 55% ▶苦咸水处理对回收率的限制 回收率通常为70% ~ 85% 高硬度,高难溶盐导致结垢 通过软化和投加阻垢剂可以提高回收率 高污染导致污堵,要求低回收率 ▶产水水质要求对回收率的限制 回收率越低,产水水质越好
高纯水:高纯水是化学纯度很高的水,其中的杂质的含量小于0.1mg/L。云南制药纯水设备公司
半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,线宽越窄,对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。
工艺流程/电子行业超纯水设备
1、源水→源水增压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→阳离子交换器→阴离子交换器→混合离子交换器→微孔过滤器→用水点
采用二级反渗透方式制取生产蓄电池用超纯水
2、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→ 级反渗透 →PH调节→中间水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点[1] 云南制药纯水设备公司