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电热鼓风烤箱适用于各种产品或材料及电气、仪表、元器件、电子、电工及汽车、航空、通讯塑胶、机械、食品、化工、化学品、五金工具在恒温环境条件下作干燥和各种恒温适应性试验。下面为大家介绍一下真萍科技电热鼓风烤箱的箱体结构。1.本烘箱由室体、加热系统、电气控制系统、送风系统、保护系统等组成。2.箱体采用先进设备制作、业内优良的制造工艺流程、线条流畅、美观大方。3.工作室材质为不锈钢、外箱材质为优良冷轧钢板,产品外壳使用环保金属漆喷制,整体设计美观大方,适合实验室的颜色搭配。4.工作室内的搁架不可调节。合肥真萍告诉您气氛炉的应用范围。福建气氛炉推荐厂家

隧道炉适用于五金模具、航天航空、纳米材料、精密陶瓷、粉末治金、铁氟龙喷涂、五金、锂电池、化工、运动器材、汽车零配件、电机、化工、工业之烘烤、干燥、预热回火、退火、老化等用途。下面为大家介绍一下真萍科技隧道炉的技术参数。 1.送风方式:强制送风循环系统。 2.温度范围:RT+10℃~300℃。 3.温度精度:±1℃ 4.温度均匀性:±1℃ 5.温控装置:富士智能PID温控仪,LED数字显示,PID自动演算及定时。 6.材质:内胆不锈钢,外箱体钢板静电喷塑。 7.传送方式:链杆、链网、自动锟轮,相当强承重。 8.特制复合式电加热器。 9.保护装置:漏电保护、断路保护、电机过载保护、接地保护、非正常运行情况下蜂鸣报警。淮北气氛炉厂家直供气氛炉的运作原理是什么?

真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜的过滤系统。1.EBM电子式EC马达控制无尘室FFU。2.镜面不锈钢结构体。3.特殊导流风道设计,风压平均,可有效提供风量,降低噪音。4.电路板控制模块,提供安全保护装置,运转异常指示灯及控制干接点输出。5.无段式风量调速器可任意调整风量大小。6.滤网ULPA,0.12μm,99.9995%以上的过滤效果。7.电力规格:单相220V50Hz0.95A,输出功率150W。
中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理,下面为大家介绍一下中温气氛箱式炉的系统配置。一、热工系统1.额定温度800℃2.较高温度850℃3.加热元件陶瓷外丝加热管4.加热功率18kw5.空炉保温功率约9kw6.温区个数1个7.控温点数2点8.热偶K分度9.控温稳定度±1℃(恒温平台)10.炉膛温度均匀度±6℃(恒温800℃,1h)二、气氛系统1.炉膛气氛2路氮气,流量计量程为2~20L/min;每路流量可调节2.排气系统在炉膛顶部设置一个排气囱,用于废气排放,废气3.经过水封清洗后进入大气中,减少对环境污染4.氧含量配氧含量分析仪分析氧含量:5.高温状态氧含量≤10ppm+气源氧含量6.低温状态氧含量≤50ppm+气源氧含量合肥真萍科技告诉您气氛炉的外观设计有哪些要求。

隧道炉适用于五金模具、航天航空、纳米材料、精密陶瓷、粉末治金、铁氟龙喷涂、五金、锂电池、化工、运动器材、汽车零配件、电机、化工、工业之烘烤、干燥、预热回火、退火、老化等用途。下面为大家介绍一下真萍科技隧道炉的特点。 1.双边配有链条传动,解决传送过程中跑偏的现象; 2.烘箱分段式加热,单独电箱控制,方便操作。结构主要由输送机系统与烘干炉两大部分组成,多段单独; 3.PID温度控制,炉内温度均匀; 4.输送速度变频调速,调节自如,运行平稳,产能高; 5.每段单独箱体设置废气排放接口,可外接到车间外面,避免车间废气污染。气氛炉的原理是什么?合肥真萍告诉您。江苏气氛炉市面价
合肥真萍科技告诉您气氛炉的选择方法。福建气氛炉推荐厂家
真萍科技洁净烘箱是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,广泛应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门的半导体设备。
下面为大家介绍一下洁净烘箱的的测控系统和控制系统。一、测控系统1.温度控制装置:日本进口温控器,内置PID自动整定,斜率设定功能2.温度控制方式为SSR固态继电器功率调整输出,温度采集探头为特制铠装K型热电偶3.温度监控装置:采用日本六通道巡回检测有纸记录仪,可将烤箱内实时环境温度进行检测打印。二、控制系统1.操作控制系统,采用精密电子仪器仪表结合电力拖动系统控制,更快速,更稳定。2.防护措施:紧急停止,超温保护,断线报警,相序保护,过载保护,短路保护,漏电保护,及电磁门禁保护等。 福建气氛炉推荐厂家
本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱,首先简单介绍一下HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性...