热等离子体辅助化学气相沉积(TPCVD):可形成致密的陶瓷膜。化学气相沉积(CVD)是一种较好的生产硬质膜的方法,广泛应用于切削刀具,并且能对具有复杂形状的工件进行镀膜。应用这种方法时需要很高的基体温度,限制了CVD的应用。与CVD方法比较,PVD方法的主要优点是成膜温度低,一般在500 0C以下,而且不需要后续热处理,但是PVD法很难在复杂形状的工具上得到均匀的膜。将CVD和PVD两者相结合导致了等离子体增强CVD方法的产生。迭加在CVD成膜系统中的等离子体在降低成膜温度的同时也减少了成膜的方向性。利用CO2激光辅助等离子体激励式化学气相沉积系统在硅基片上沉积出非晶型含氢较低的氮化硅薄膜,这些薄膜的致密性及平整度良好,其抗腐蚀性亦明显提高。热等离子体处理危险废物技术原理及应用进展。江苏热源替换热等离子体矩方案
等离子体(plasma)又叫做电浆,它通过给气体施加足够的能量(通常为气体放电)而电离形成,是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质,广存在于宇宙中,常被视为是物质的第四态。虽然等离子体作为高度电离的气体由大量的正负带电离子和中性粒子组成,但等离子体整体表现为电中性。等离子体根据粒子温度和整体能量状态可分为高温等离子体和低温等离子体,其中低温等离子体又能细分为冷等离子体和热等离子体。详见表1.1。主要应用于固废和危废处理的是热等离子体。北京智能热等离子体矩方案热等离子体矩是如何进行分类的?
等离子体精密加工:能够获得无亚表面损伤且表面粗糙度 RMS<nm 的超光滑表面,对硬脆材料(碳化硅、熔融石英、陶瓷及K9玻璃等)表面处理具有高精度、高质量以及无亚表面损伤的优点,在手术探针镜头、航空航天、以及空间光学等对元件的表面质量与加工效率高要求领域的光学元件加工中具有广泛应用。 直流电弧等离子体法是一种合成纳米金属材料的有效方法。 该方法的特点是合成速度快、纯度高、可制备的纳米金属材料种类多,可以用来制备其他方法难以合成的难熔金属纳米材料。中心电弧区高达 1×104K的温度可以使难熔金属阳极迅速升华,经过冷凝-成核-长大的过程后即可获得纯度高、分散性好、粒径小且粒度分布均匀的难熔金属纳米粉。通过改变等离子体气体压力、电流等实验参数,可对难熔金属纳米颗粒的粒径和产率进行控制。
等离子体处理炉的设计应该考虑其处理温度及压力的需求,保证其系统及主体设备使用寿命不低于10年。等离子体炉应配备相应的附属设备,包括炉体、等离子体发生器系统、供气系统、冷却系统、控制系统等。等离子发生器系统包括等离子体发生器本体、电源系统、载体工质系统、冷却水系统、插拔系统及控制系统等。等离子体发生器系统的电源系统一次设备主要包括高压开关柜、降压变压器、低压开关柜、隔离变压器、整流柜和起弧柜等。应满足以下要求:a)电源产生的谐波应符合GB/T14549的要求;b)应避免与电动给水泵的电源在同一电源段;c)电缆的设计选型应符合GB50217的规定;d)冷却水泵和风机的电源应分别取自厂用电源的不同电源段。低温等离子体技术的应用。
陶瓷材料具有高硬度、刚性、耐磨性和低密度等优点,主要包括氮化物陶瓷、碳化物陶瓷、氧化物陶瓷三大类。 纳米陶瓷材料因晶粒细化到了纳米级别,晶界数量远多于普通陶瓷材料,具有的力学性能与高温性能。 电弧法是一种合成纳米陶瓷材料的有效方法。随着对纳米颗粒研究的不断深入,其制备手段也不断发展。 电弧法制备纳米材料已经不再是简单的原材料蒸发、冷凝的物理过程,还伴随着化学反应的发生,是一个包含了化学反应和物理过程的综合过程。热等离子体矩批发,欢迎咨询江苏先竞等离子体技术研究院有限公司。浙江智能热等离子体矩方案
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