超纯水基本参数
  • 品牌
  • 威立特
  • 型号
  • H2O
  • CAS
  • 7732-18-5
  • 保存条件
  • 避光、常温
  • 产品等级
  • 一级
  • 密度
  • 1000000
  • 厂家
  • 苏州威立特环保科技有限公司
  • 产品规格
  • 25KG/桶
  • 执行标准
  • 国标
  • 有效物质含量
  • 1
  • 产地
  • 苏州
超纯水企业商机

杂质含量:原水(如自来水、地表水或地下水)中的杂质种类和含量是影响超纯水质量的首要因素。如果原水中含有大量的溶解性固体,包括钙、镁、钠等阳离子和氯、硫酸根等阴离子,会增加后续处理的难度。例如,原水中高浓度的钙、镁离子可能导致在管道和设备中形成水垢,影响设备的运行效率和超纯水的质量。此外,原水中的有机物含量也很关键,像腐殖酸、富里酸等天然有机物,会在后续的处理过程中与消毒剂或其他化学药剂发生反应,生成副产物,影响超纯水的纯度。微生物污染:原水中的微生物,如细菌、病毒、藻类等,也是重要的影响因素。微生物的存在可能会在超纯水制备系统中繁殖,堵塞过滤器和膜组件,并且其代谢产物还会增加水中的有机物和营养物质含量。例如,细菌在水中生长繁殖会分泌胞外聚合物,这些物质可能会附着在反渗透膜或离子交换树脂上,降低它们的性能。超纯水的微生物含量被严格限制,防止污染敏感过程。试验超纯水

超纯水

化学清洗:当膜污染较为严重时,靠冲洗无法恢复膜的性能,需要进行化学清洗。根据污染物的类型和性质,选择合适的清洗药剂,如酸液、碱液、氧化剂、表面活性剂等,并按照一定的浓度和温度配制成清洗液,对反渗透膜进行循环清洗,以去除顽固的有机污染物、无机垢和微生物等。清洗时间一般为 1 - 数小时不等,具体取决于污染程度和清洗效果13.消毒处理:为防止微生物在反渗透系统中滋生和繁殖,影响水质和膜的性能,可定期对系统进行消毒处理。常用的消毒方法包括使用紫外线消毒、臭氧消毒、化学消毒剂(如过氧化氢、次氯酸钠等)消毒等,消毒时间和频率根据实际情况确定135.在线监测:在反渗透系统运行过程中,需安装在线监测设备,实时监测进水、产水和浓水的水质指标,如电导率、pH 值、TOC、颗粒计数等,以及进水压力、流量、温度等运行参数,以便及时掌握系统的运行状况和水质变化趋势5.进口超纯水配方技术超纯水在智能家电制造中用于关键部件的清洗。

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高锰酸钾法,原理:在酸性或碱性条件下,以高锰酸钾为氧化剂,将水样中的有机物氧化,剩余的高锰酸钾用草酸钠溶液还原,再用高锰酸钾溶液回滴过量的草酸钠,通过计算求出高锰酸盐指数,即 CODMn。 适用范围:适用于污染物相对较低的河流水和地表水。优点:实验过程中产生的污染比重铬酸钾法小。缺点:氧化性较低,氧化不彻底,测得的高锰酸盐指数比重铬酸盐指数低,通常与国标法测定结果相差 3-8 倍,且试验中需要回滴过量草酸钠,耗时长。

物理过滤过程:反渗透是一种物理过滤方式,无需添加化学试剂,不会引入新的化学物质到水中,避免了化学残留对水质的影响,这对于对水质纯净度要求极高的行业,如电子工业、制药行业等尤为重要,可有效保证产品质量和安全性178.高脱盐率与高纯净度:在去除有机污染物的同时,还可去除水中的溶解性固体、胶体、细菌、病毒等杂质,很好的提高水的纯度,满足对水质要求极高的应用场景,如电子行业中半导体器件制造对超纯水的需求1811.技术成熟,设备稳定:反渗透技术发展成熟,设备运行稳定可靠。只要控制好操作条件,如压力、温度、进水水质等,系统就能持续稳定地去除有机污染物,并可配备自动化监测和控制系统,实时监测运行参数,及时发现和处理问题,保障稳定供水,适合大规模连续生产1811.与蒸馏法对比:虽然反渗透过程需要一定压力驱动水通过半透膜,但相较于蒸馏法等其他高级净化技术,其能耗要低得多,可很好的降低生产成本和对环境的影响,在长期运行中更具经济优势18.超纯水的生产需对原水进行预处理以去除大颗粒与胶体。

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紫外线杀菌(UV) 杀菌原理 紫外线杀菌是利用紫外线(主要是 254nm 波长的紫外线)照射破坏微生物的 DNA 结构,使微生物失去繁殖和生存能力。对于水中残留的细菌、病毒和藻类等微生物,紫外线照射能够有效地将它们杀灭,从而保证超纯水的微生物指标符合要求。 设备配置 紫外线杀菌设备通常由紫外灯、石英套管和反应器组成。紫外灯发出的紫外线透过石英套管照射在水中,为了确保杀菌效果,要根据处理水量和水质来确定紫外灯的功率和数量,同时要保证水在反应器中的停留时间足够长,一般在几秒到几十秒之间。超纯水在包装材料印刷中用于油墨调配与清洗。进口超纯水配方技术

电吸附技术可辅助超纯水的除盐与净化。试验超纯水

电子行业 在半导体制造领域,超纯水的应用极为关键。芯片制造过程中,从硅片的清洗、光刻、蚀刻到离子注入等各个工序,都需要超纯水。例如,在硅片清洗过程中,超纯水可以有效去除硅片表面的颗粒、有机物和金属离子等杂质。因为芯片的线宽非常小,微小的杂质颗粒都可能导致芯片短路或出现性能问题。在光刻工艺中,超纯水用于冲洗光刻胶,确保光刻图案的准确性。其高纯度能够避免水中杂质对光刻胶的溶解特性产生影响,从而保障芯片的高精度制造。 对于电子元器件的生产,如电路板的制作,超纯水也不可或缺。它用于清洗电路板,去除焊接过程中产生的助焊剂残留物、金属屑等杂质。这些杂质如果残留在电路板上,可能会引起电路的腐蚀或短路,影响电子产品的可靠性和使用寿命。试验超纯水

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