东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 三维光学扫描设备，在保证高精度的同时，具备操作便捷、维护简单的明显优势。RPS 设备采用人性化设计，配备直观的操作界面，操作人员经过简单培训即可上手操作。设备支持多种扫描模式一键切换，扫描参数可自动适配不同材质与颜色的扫描对象，降低操作难度。在维护方面，RPS 设备的中心部件采用模块化设计，更换便捷，减少维护时间；设备自带校准标定引导功能，指引操作者正确进行校准调节，避免不规范操作带来的影响。RPS 设备的便携式三角架承重达 10KG，移动灵活，可适应不同工作场景的使用需求。该 RPS 设备的平均无故障运行时间长，维护成本低，为用户带来了高效、经济的使用体验，成为精密测量领域的热门 RPS 产品。在射频滤波器制造中实现压电薄膜的精确刻蚀。RPS生产厂家
RPS远程等离子源应用领域在生物医疗器件，特别是微流控芯片、体外诊断（IVD）设备和植入式器械的制造中，扮演着表面功能化改性的重要角色。许多高分子聚合物（如PDMS、PC、COC）因其优异的生物相容性和易加工性被广 使用，但其表面通常呈疏水性，不利于细胞粘附或液体流动。RPS远程等离子源通过氧气或空气产生的氧自由基，能够高效地在这些聚合物表面引入大量的极性含氧基团（如羟基、羧基），从而将其从疏水性长久性地改变为亲水性。这种处理均匀、彻底，且不会像直接等离子体那样因过热和离子轰击对精细的微流道结构造成损伤。经过RPS处理的微流控芯片，其亲水通道可以实现无需泵驱动的毛细管液流，极大地简化了设备结构，提升了检测的可靠性和灵敏度。北京晟鼎RPS光伏设备清洗为晶圆键合工艺提供超高洁净度界面。
半导体制造对工艺洁净度和精度要求极高，任何微小的污染或损伤都可能导致器件失效。RPS远程等离子源通过其低损伤特性，在清洗和刻蚀步骤中发挥重要作用。例如，在先进节点芯片的制造中，RPS远程等离子源可用于去除光刻胶残留或蚀刻副产物，而不会对脆弱的晶体管结构造成影响。其均匀的等离子体分布确保了整个晶圆表面的处理一致性，从而减少参数波动和缺陷密度。通过集成RPS远程等离子源 into 生产线，制造商能够实现更高的工艺稳定性和产品良率，同时降低维护成本。
东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 定位技术，在智慧园区建设中得到综合应用，提升园区管理效率与智能化水平。在智慧园区中，RPS 可实现人员、车辆、设备的实时定位管理，通过终端设备可快速查询目标位置，提升调度效率；在安防领域，RPS 可监测人员进出权限，实现区域入侵报警，提升园区安全性。RPS 定位技术与园区物联网平台联动，可实现能耗管理、环境监测等功能的智能触发，如根据人员分布调节照明、空调等设备。该 RPS 智慧园区解决方案具备良好的扩展性，可根据园区规模与需求进行功能升级；通过大数据分析，可优化园区资源配置，降低运营成本。目前，RPS 定位技术已应用于多个智慧园区项目，成为园区智能化建设的中心 RPS 技术支撑。使用工艺气体三氟化氮（NF3）/O2，在交变电场和磁场作用下，原材料气体会被解离，从而释放出自由基。
三维NAND闪存堆叠层数的不断增加，对刻蚀后高深宽比结构的清洗带来了巨大挑战。其深孔或深沟槽底部的刻蚀残留物（如聚合物）若不能彻底清理 ，将严重影响后续多晶硅或钨填充的质量，导致电荷陷阱和器件性能劣化。在此RPS远程等离子源应用领域展现出其独特优势。由于等离子体在远程生成，其主要产物是电中性的自由基，这些自由基具有较好的扩散能力，能够无阻碍地深入深宽比超过60:1的结构底部，与残留物发生化学反应并将其转化为挥发性气体排出。相较于直接等离子体，RPS技术避免了因离子鞘层效应导致的清洗不均匀问题，确保了从结构顶部到底部的均匀清洁，且不会因离子轰击造成结构侧壁的物理损伤。这使得RPS远程等离子源应用领域成为3D NAND制造中实现高良率、高可靠性的主要 技术之一。RPS远程等离子源是一款基于电感耦合等离子体技术的自成一体的原子发生器。湖北推荐RPS冗余电源
RPS用于晶圆清洗、刻蚀和薄膜沉积工艺，去除光刻胶和残留物。RPS生产厂家
传统等离子清洗技术（如直接等离子体）常因高能粒子轰击导致工件损伤，尤其不适用于精密器件。相比之下，RPS远程等离子源通过分离生成区与反应区，只 输送长寿命的自由基到处理区域，从而实现了真正的“软”清洗。这种技术不仅减少了离子轰击风险，还提高了工艺的可控性。例如，在MEMS器件制造中，RPS远程等离子源能够精确去除有机污染物而不影响微结构。此外，其灵活的气体选择支持多种应用，从氧化物刻蚀到表面活化。因此，RPS远程等离子源正逐步取代传统方法，成为高级 制造的优先。RPS生产厂家
