东莞市晟鼎精密仪器有限公司推出的 RPS 远程等离子源，是半导体先进制程中的关键中心设备。RPS 采用电感耦合等离子体技术，通过单独腔室生成高密度等离子体，经远程传输区筛选后，只让中性自由基进入主工艺腔，从根源避免离子轰击对晶圆的物理损伤。在 5nm 以下节点芯片制造中，RPS 展现出优越的工艺适配性，无论是 FinFET 还是 GAA 晶体管加工，都能精细控制侧壁粗糙度与晶格缺陷。RPS 支持 Ar、O₂、NF₃等多种工艺气体配比调节，可实现 SiO₂与 SiN 的刻蚀选择比超过 100:1，满足高深宽比通孔的均匀加工需求。晟鼎精密的 RPS 设备在 300mm 晶圆处理中，能将刻蚀均匀性控制在 ±2% 以内，长时间运行稳定性强，为半导体量产提供可靠保障，成为逻辑芯片、存储器件制造中的推荐 RPS 解决方案。用于太赫兹器件的超精密清洗。福建远程等离子源RPS石墨舟处理
东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 定位技术，为工业物联网提供了精细的数据采集支撑，助力工业智能化升级。在工业生产场景中，RPS 可实时定位生产设备、物料、人员的位置信息，将数据上传至工业物联网平台，实现生产过程的可视化管理。RPS 定位数据与生产数据融合分析，可优化生产流程，提高生产效率；通过监测设备位置与状态，可实现设备的预防性维护，减少故障停机时间。RPS 定位系统具备低功耗、广覆盖的特点，可适应工业车间的复杂环境；支持多设备同时定位，满足大规模工业场景的应用需求。该 RPS 工业物联网解决方案已应用于智能工厂、智能制造园区等场景，成为工业物联网数据采集的中心 RPS 技术工具。海南RPS联系方式在传感器制造中实现敏感薄膜的均匀沉积。
东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 远程等离子体源，针对第三代半导体（GaN、SiC）的加工特性进行了专项优化，成为该领域的中心加工设备。第三代半导体材料硬度高、脆性大，传统加工方式易产生表面损伤，RPS 通过中性自由基反应实现低损伤加工，避免表面微裂纹的产生。RPS 可精细控制工艺参数，适配 GaN、SiC 等材料的刻蚀与清洁需求，在保证加工精度的同时，比较大限度保护材料原有性能。在第三代半导体器件制造中，RPS 的高选择性刻蚀能力可实现不同材料层的精细分离，高深宽比加工能力满足器件微型化需求。该 RPS 设备运行稳定，工艺重复性强，可满足第三代半导体量产需求，目前已应用于功率器件、射频器件等产品的制造，为第三代半导体产业发展提供了关键的 RPS 技术支撑。
东莞市晟鼎精密仪器有限公司为 RPS 远程等离子体源客户提供多方位的售后技术支持与服务保障，解除客户使用顾虑。公司建立了专业的售后服务团队，通过电话、在线咨询等多种方式为客户提供及时的技术指导，解决设备使用过程中遇到的问题。对于需要现场服务的情况，RPS 售后服务工程师可快速响应，上门进行设备安装调试、维护维修等服务。晟鼎精密提供 RPS 设备的定期维护保养服务，根据设备使用情况制定维护计划，延长设备使用寿命；同时提供设备备件供应服务，确保备件及时到位，减少设备停机时间。该 RPS 售后技术支持与服务保障体系已获得客户的宽泛认可，成为客户长期合作的重要保障。RPS利用原子的高活性强氧化特性，达到清洗CVD或其他腔室后生产工艺的目的。
东莞市晟鼎精密仪器有限公司推动 RPS 检具检测流程的标准化与自动化，大幅提升了汽车零部件检测的效率与稳定性。RPS 检测流程严格遵循 “准备 - 校准 - 装夹 - 检测 - 判定” 的标准化步骤，从检具硬件校准到数据记录输出，每个环节都制定了明确的操作规范。在自动化升级方面，RPS 检测系统引入机器人搭载三坐标测量头或激光扫描仪，实现零部件 RPS 定位点的全自动检测，减少人工干预导致的误差。RPS 检测软件具备自动拼接、偏差分析、报告生成等功能，可实时显示检测结果，通过绿 / 黄 / 红指示灯直观提示合格状态。该 RPS 标准化检测流程的检测节拍时间可控制在 30 秒 / 件以内，满足生产线在线检测需求。通过数字化管理，RPS 检测数据可追溯、可分析，帮助企业优化生产工艺，提升产品质量，成为汽车制造智能化升级的中心 RPS 支撑。该技术通过远程等离子体分离原理避免器件表面损伤。上海半导体设备RPS腔体清洗
在存储芯片制造中提升介质层可靠性。福建远程等离子源RPS石墨舟处理
东莞市晟鼎精密仪器有限公司研发的 RPS 远程等离子源 SPR-08，为半导体设备工艺腔体清洁提供原子级解决方案。该 RPS 设备基于电感耦合等离子体技术，通过交变电场和磁场作用解离 NF3/O2 等工艺气体，释放出高活性自由基，与工艺腔室内沉积的 SIO/SIN 污染材料及 H2O、O2 等残余气体发生化学反应，聚合为气态分子后经真空泵组抽出。RPS 的中心优势在于实现等离子体生成区与主工艺腔的物理隔离，避免离子轰击造成的腔室损伤，同时保证清洁彻底性。在 5nm 以下先进制程中，RPS 清洁技术可有效去除光刻胶残留与微小污染物，确保腔室洁净度满足高精度加工要求。RPS 设备操作便捷，维护简单，运行稳定性强，可适配不同规格半导体工艺腔体，目前已成为半导体制造企业提升产能与产品良率的关键 RPS 设备。福建远程等离子源RPS石墨舟处理
