QuantumXshape在3D微纳加工领域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面结构应用上突破性的双光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有赖于其高能力的体素调制比和超精细处理网格，从而实现亚体素的尺寸控制。此外，受益于双光子灰度光刻对体素的微调，该系统在表面微结构的制作上可达到超光滑，同时保持高精度的形状控制。QuantumXshape不只是应用于生物医学、微光学、MEMS、微流道、表面工程学及其他很多领域中器件的快速原型制作的理想工具，同时也成为基于晶圆的小结构单元的批量生产的简易工具。通过系统集成触控屏控制打印文件来很大程度提高实用性。通过系统自带的nanoConnectX软件来进行打印文件的远程监控及多用户的使用配置，实现推动工业标准化及基于晶圆批量效率生产其双光子光刻系统基于2PP技术，精度比传统设备高出100倍，达纳米级。浙江双光子聚合3D打印
双光子聚合技术是一种高精度、高效率的微纳加工技术，具有以下优势特点：高精度和高分辨率：双光子聚合技术可以实现亚微米甚至纳米级的分辨率，使得制造出的微纳结构更加精细。这是因为它利用双光子吸收过程，将激光束聚焦到非常小的体积内，从而实现了高精度的加工。三维加工能力：由于双光子聚合技术可以在聚合物体积内部进行光刻，因此可以实现复杂的三维结构制造，如微型光学元件、微流体芯片等。这一特点使得它在微纳制造领域具有广泛的应用前景。无需光掩膜：传统的光刻技术需要使用光掩膜进行图案转移，而双光子聚合技术可以直接通过计算机控制激光束的位置和强度来实现图案的制造，无需光掩膜。这不仅降低了制造成本，还缩短了制造周期。材料多样性：双光子聚合技术可以使用各种不同类型的光敏树脂作为加工材料，从而可以制造出各种不同性质和功能的微纳结构。这为微纳制造提供了更多的选择和灵活性。高效加工速度：双光子聚合技术具有较高的加工速度，可以在短时间内制造出复杂的三维结构。这使得它在工业生产中具有较高的效率和竞争力。易于控制和修改：双光子聚合的加工环境和参数易于控制，可以轻松修改得到所需的结构。 北京超高精度双光子聚合微纳光刻双光子聚合技术的更多知识，请致电Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司。
作为全球头一台双光子灰度光刻激光直写系统，QuantumX可以打印出具有出色形状精度和光学质量表面的高精度微纳光学聚合物母版，可适用于批量生产的流水线工业程序，例如注塑，热压花和纳米压印等加工流程，从而拓展微纳加工工业领域的应用。2GL与这些批量生产流水线工业程序的结合得益于新技术的亚微米分辨率和灵活性的特点，同时缩短创新微纳光学器件（如衍射和折射光学器件）的整体制造时间。Nanoscribe的QuantumX打印系统非常适合DOE的制作。该系统的无掩模光刻解决方案可以满足衍射光学元件所需的横向和纵向高分辨率要求。基于双光子灰度光刻技术(2GL®)的QuantumX打印系统可以实现一气呵成的制作，即一步打印多级衍射光学元件，并以经济高效的方法将多达4,096层的设计加工成离散的或准连续的拓扑。
双光子聚合技术的应用前景：1. 快速3D打印：双光子聚合技术可以用于快速3D打印。通过这种技术，可以实现高精度、高分辨率的3D打印，从而制造出更加精细、复杂的结构。这使得3D打印技术可以应用于更多领域，包括航空航天、医疗等高精度制造领域。2. 光子晶体形成：双光子聚合技术可以用于光子晶体的制备。光子晶体是一种具有周期性折射率变化的介质，可以控制光的传播路径。利用双光子聚合技术，可以制造出具有复杂结构和高质量的光子晶体，为光学器件和光子芯片的制备提供新的途径。3. 高精度光子器件制造：双光子聚合技术可以用于高精度光子器件的制造。例如，利用这种技术可以制造出高精度的光学镜片、光纤等光子器件。这些器件在通讯、能源等领域具有广泛的应用前景。4. 生物医学领域应用：双光子聚合技术还可以应用于生物医学领域。例如，在生物组织工程中，可以利用这种技术制造出具有复杂结构和高度精确的生物材料。这些材料可以用于药物输送、组织修复等方面，为生物医学研究提供新的工具和思路。对准双光子光刻助力光互联，可精确制备微纳光波导，提升光信号传输效率。
售后支持和服务拥有超过14年的微加工技术经验，我们的技术支持团队努力在短的时间内为客户提供好的支持。在德国总部，中国分公司和美国分公司，以及通过Nanoscribe认证的经销商提供的销售服务和技术支持。我们的跨学科和多语言技术支持团队为客户提供各方面的支持:装机、维护和维修现场和线上的培训课程通过NanoGuide综合自助服务平台自助查询电话、电子邮件和设备自带远程支持功能基础操作技巧之外的高阶技术和应用支持延长维修保修合同、升级服务、移机服务Nanoscribe中国分公司-纳糯三维邀您一起探讨研究国内外在双光子聚合技术领域的进展。北京超高精度双光子聚合微纳光刻
Nanoscribe中国分公司-纳糯三维邀您一起探讨国内在双光子聚合技术领域的进展。浙江双光子聚合3D打印
Nanoscribe称，QuantumX是世界上**基于双光子灰度光刻技术（two-photongrayscalelithography，2GL）的工业系统，目前该技术正在申请专利。2GL将灰度光刻技术与Nanoscribe的双光子聚合技术相结合，可生产折射和衍射微光学以及聚合物母版的原型。QuantumX的软件能实时控制和监控打印作业，并通过交互式触摸屏控制面板进行操作。为了更好地管理和安排用户的项目，打印队列支持连续执行一系列打印作业。该软件有程序向导，可在一开始就指导设计师和工程师完成打印作业，并能够接受任意光学设计的灰度图像。例如，可接受高达32位分辨率的BMP、PNG或TIFF文件，以便使用Nanoscribe的QuantumX进行直接制造。在双光子灰度光刻工艺中，激光功率调制和动态聚焦定位在高扫描速度下可实现同步进行，以便对每个扫描平面进行全体素大小控制。Nanoscribe称，QuantumX在每个扫描区域内可产生简单和复杂的光学形状，具有可变的特征高度浙江双光子聚合3D打印
