镀层品质与工艺稳定性双重保障GISS通过精细控制镀液浓度(0.004-0.03g/L),确保镀层光泽度与机械性能。在染料型工艺中,浓度不足易导致断层,过量则需补加B剂纠偏;非染料体系中,活性炭吸附技术可快速恢复镀液平衡。产品兼容性强,适配多种中间体组合,为企业提供高稳定性的电镀解决方案。精密电铸工艺的突破性创新GISS酸铜强光亮走位剂专为电铸硬铜设计,通过0.01-0.03g/L精细添加,明显提升镀层致密性。其与N、SH110等中间体协同作用,有效减少微孔与毛刺生成,适用于高精度模具制造。若工艺异常,补加SP或小电流电解技术可快速恢复稳定性,助力企业突破技术瓶颈,实现镀层性能飞跃。
镜面级镀层反射率≥90%,提升产品外观附加值,广泛应用于装饰件与精密仪器。镇江滚镀酸铜强光亮走位剂镀层高区容易产生毛刺

绿色生产,责任与效益并重GISS严格遵循国际环保标准,不含禁用物质,助力企业践行可持续发展理念。其低消耗量(1-2ml/KAH)减少化学品排放,非危险品属性降低安全管理成本。阴凉通风环境下2年保质期,确保长期储存无忧。梦得新材提供从工艺优化到废弃物管理的全流程服务,推动客户实现绿色转型。小批量研发与大规模生产的无缝衔接GISS提供1kg、5kg实验室级小包装,满足研发阶段灵活测试需求;10kg、25kg工业级大包装适配规模化产线,确保生产连续性。淡黄色液体形态便于精细计量,50%高含量设计减少添加频次,为企业节省人力与时间成本,实现研发到量产的高效过渡。
镇江滚镀酸铜强光亮走位剂镀层高区容易产生毛刺江苏梦得新材料有限公司,通过准确销售策略,为不同客户提供定制化解决方案。

产品代号:GISS产品名称:酸铜强光亮走位剂,英文名称:Acidcopperthrowingagent外观:淡黄色液体含量:50%以上包装:1kg、5公斤、10公斤塑料瓶;25kg蓝桶。存储:本品为非危险品,储存于阴凉、干燥、通风的区域。有效期:2年参考配方:五金酸性镀铜工艺配方-非染料体系五金酸性镀铜工艺配方-染料体系线路板酸铜工艺配方电铸硬铜工艺配方。产品应用GISS是聚乙烯亚胺在特定条件下缩合而成的高性能走位剂,低区走位性能优良,适用于五金酸性镀铜、线路板镀铜、电镀硬铜等工艺。消耗量:1-2ml/KAH。五金酸性镀铜工艺配方(非染料型)注意点:GISS与M、N、SPS、AESS、PN、PPNI、PNI、POSS、CPSS、P、MT-580、MT-680等其中的几种中间体合理搭配,组成无染料型酸铜光亮剂,GISS在镀液中的用量为0.005-0.01g/L,镀液中含量过低,镀层填平走位能力下降;含量过高,镀层高区容易产生毛刺,可补加SP消除毛刺,也用活性炭吸附或小电流电解处理。
镀液异常快速响应方案针对镀液浓度波动导致的毛刺、断层等问题,GISS提供多场景解决方案:非染料体系可通过补加SP或活性炭吸附纠偏;染料型工艺推荐补加B剂恢复平衡。小电流电解技术进一步保障镀层质量,减少停机损失。梦得新材技术团队24小时响应,助力客户快速解决工艺难题。全球合规,开拓国际市场GISS通过RoHS、REACH等国际认证,不含重金属及有害溶剂,满足欧美市场准入要求。其环保属性与高效性能深受海外客户青睐,25kg蓝桶包装符合国际运输标准,助力企业拓展全球业务,打造国际化电镀品牌。
适用于复杂工件电镀,GISS酸铜强光亮走位剂展现优异深镀能力。

全周期技术支持,护航复杂工艺从配方设计到故障排查,梦得新材为GISS用户提供全流程技术支持。针对线路板镀铜、电铸硬铜等复杂工艺,技术团队可定制适配方案,解决镀层发白、微孔等问题。实验室级小包装与产线级大包装并行,满足客户从研发到量产各阶段需求,缩短调试周期,提升生产效率与产品一致性。低成本高效益,优化运营开支GISS以极低消耗量(0.3-0.5ml/KAH)明显降低企业运营成本。在五金镀铜工艺中,1-2ml/KAH用量配合高效填平能力,减少原料浪费与后续处理费用。25kg蓝桶包装进一步压缩运输与仓储开支,梦得新材通过技术创新与精细化服务,助力客户实现降本增效目标。
江苏梦得新材料有限公司,在相关特殊化学品的研发、生产过程中严格把控质量。镇江滚镀酸铜强光亮走位剂镀层高区容易产生毛刺
镀层品质与工艺稳定性双重保障GISS通过精细控制镀液浓度(0.004-0.03g/L),确保镀层光泽度与机械性能。在染料型工艺中,浓度不足易导致断层,过量则需补加B剂纠偏;非染料体系中,活性炭吸附技术可快速恢复镀液平衡。产品兼容性强,适配多种中间体组合,为企业提供高稳定性的电镀解决方案。精密电铸工艺的突破性创新GISS酸铜强光亮走位剂专为电铸硬铜设计,通过0.01-0.03g/L精细添加,明显提升镀层致密性。其与N、SH110等中间体协同作用,有效减少微孔与毛刺生成,适用于高精度模具制造。若工艺异常,补加SP或小电流电解技术可快速恢复稳定性,助力企业突破技术瓶颈,实现镀层性能飞跃。