辽宁德国BEAM光刻机

在制备用于柔性显示的纳米压印模板时，Polos 光刻机的亚微米级定位精度（±50nm）确保了图案的均匀复制。某光电实验室使用该设备，在石英基底上刻制出周期 100nm 的柱透镜阵列，模板的图案保真度达 99.8%，边缘缺陷率低于 0.1%。基于此模板生产的柔性 OLED 背光模组，亮度均匀性提升至 98%，厚度减至 50μm，成功应用于下一代折叠屏手机，相关技术已授权给三家面板制造商。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。无掩模技术优势：摒弃传统掩模，图案实时调整，研发成本降低 70%，小批量生产经济性突出。辽宁德国BEAM光刻机

在organ芯片研究中，模拟人体organ微环境需要微米级精度的三维结构。德国 Polos 光刻机凭借无掩模激光光刻技术，帮助科研团队在 PDMS 材料上构建出仿生血管网络与组织界面。某再生医学实验室使用 Polos 光刻机，成功制备出肝芯片微通道，其内皮细胞黏附率较传统方法提升 40%，且可通过软件实时调整通道曲率，precise模拟肝脏血流动力学。该技术缩短了organ芯片的研发周期，为药物肝毒性测试提供了更真实的体外模型，相关成果入选《自然・生物技术》年度创新技术案例。上海德国PSP-POLOS光刻机基材厚度可达到0.1毫米至8毫米光束引擎高速扫描：SPS POLOS µ单次写入400 µm区域，压电驱动提升扫描速度。

细胞培养芯片需根据不同细胞类型设计表面微结构，传统光刻依赖掩模库，难以满足个性化需求。Polos 光刻机支持 STL 模型直接导入，某干细胞研究所在 24 小时内完成了神经干细胞三维培养支架的定制加工。其制造的微柱阵列间距可精确控制在 5-50μm，适配不同分化阶段的细胞黏附需求。实验显示，使用该支架的神经细胞轴突生长速度提升 30%，为神经再生机制研究提供了高效工具，相关技术已授权给生物芯片企业实现量产。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。

SPS POLOS µ以紧凑的桌面设计降低实验室设备投入，光束引擎通过压电驱动实现高速扫描（单次写入400 µm区域）。支持AZ5214E等光刻胶的高效曝光，成功制备3 µm间距微图案阵列和叉指电容器，助力纳米材料与柔性电子器件的快速验证。其无掩模特性进一步减少材料浪费，为中小型实验室提供经济解决方案62。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。亚微米级精度：0.8 µmmost小线宽，支持高精度微流体芯片与MEMS器件制造。

微纳卫星对部件重量与精度要求苛刻，传统加工难以兼顾。Polos 光刻机在硅基材料上实现了 50nm 深度的微沟槽加工，为某航天团队制造出轻量化星载惯性导航陀螺结构。通过自定义螺旋型振动梁图案，陀螺的零偏稳定性提升至 0.01°/h，较商用产品性能翻倍。该技术还被用于微推进器喷嘴阵列加工，使卫星姿态调整精度达到亚毫牛级，助力我国低轨卫星星座建设取得关键突破。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。低成本科研普惠：桌面化设计减少投入，无掩膜工艺降低中小型实验室门槛。辽宁POLOSBEAM-XL光刻机光源波长405微米

德国技术基因：融合精密光学与自动化控制，确保设备高稳定性与长寿命。辽宁德国BEAM光刻机

超表面通过纳米结构调控光场，传统电子束光刻成本高昂且效率低下。Polos 光刻机的激光直写技术在石英基底上实现了亚波长量级的图案曝光，将超表面器件制备成本降低至传统方法的 1/5。某光子学实验室利用该设备，研制出宽带消色差超表面透镜，在 400-1000nm 波长范围内成像误差小于 5μm。其灵活的图案编辑功能还支持实时优化结构参数，使器件研发周期从数周缩短至 24 小时，推动超表面技术从理论走向集成光学应用。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。辽宁德国BEAM光刻机