北京光刻机光源波长405微米

在构建肝脏芯片的血管化网络时，某生物工程团队使用 Polos 光刻机实现了跨尺度结构制备。其无掩模技术在 200μm 的主血管与 5μm 的blood capillary间precise衔接，血管内皮细胞贴壁率达 95%，较传统光刻提升 30%。通过输入 CT 扫描的真实肝脏血管数据，芯片成功模拟门静脉与肝窦的血流梯度，使肝细胞功能维持时间从 7 天延长至 21 天。该技术为药物肝毒性测试提供了接近体内环境的模型，某制药公司使用后将候选药物筛选周期缩短 40%，相关成果登上《Lab on a Chip》封面。材料科学：超疏水表面纳米图案化，接触角 165°，防腐蚀性能增强 10 倍。北京光刻机光源波长405微米

某半导体实验室采用 Polos 光刻机开发氮化镓（GaN）基高电子迁移率晶体管（HEMT）。其激光直写技术在蓝宝石衬底上实现了 50nm 栅极长度的precise曝光，较传统光刻工艺线宽偏差降低 60%。通过自定义多晶硅栅极图案，器件的电子迁移率达 2000 cm²/(V・s)，击穿电压提升至 1200V，远超商用产品水平。该技术还被用于 SiC 基功率器件的台面刻蚀，刻蚀深度均匀性误差小于 ±3%，助力我国新能源汽车电控系统core器件的国产化突破。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。辽宁POLOSBEAM光刻机MAX层厚可达到10微米技术Benchmark：Polos-µPrinter 入选《半导体技术》年度创新产品，推动无掩模光刻技术普及。

单细胞分选需要复杂的流体动力学控制结构，传统光刻难以实现多尺度结构集成。Polos 光刻机的分层曝光功能，在同一片芯片上制备出 5μm 窄缝的细胞捕获区与 50μm 宽的废液通道，通道高度误差控制在 ±2% 以内。某细胞生物学实验室利用该芯片，将单细胞分选通量提升至 1000 个 / 秒，分选纯度达 98%，较传统流式细胞仪体积缩小 90%。该技术已应用于循环tumor细胞检测，使稀有细胞捕获效率提升 3 倍，相关设备进入临床验证阶段。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。

电子学：芯片研发的快速原型工具，Polos设备成为芯片研发的“快速试错”利器，凭借纳米级电路图案刻制能力，助力科研团队优化集成电路设计。上海某研究所利用NWA-100加工的新型电路结构，使芯片能耗降低25%，运算速度提升15%。设备支持任意图案输入的灵活性，可适配传感器、微型处理器等多样化电子元件需求，无需更换掩模即可完成多版本测试，大幅降低研发成本。德国 Polos 是桌面级紫外激光直写光刻机领域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 为core定位。主打无掩模技术与紧凑设计，产品覆盖 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率达 0.3-23μm，适配多基材加工。广泛应用于微电子、生物医学等领域，为科研机构与中小企业提供高性价比微纳加工解决方案，推动技术普惠。​POLOS µ 光刻机：桌面级设计，2-23μm 可调分辨率，兼容 4 英寸晶圆，微机电系统加工误差 < 5μm。

NanoWriterNW-100：入门级高精度加工利器，NanoWriterNW-100作为Polos的经典型号，以0.8-2.5μm可调分辨率重塑入门级设备标准。搭载405nm或375nm激光光源，支持4095级灰度模式与2.5D结构制作，可在硅、玻璃等多种基材上实现精细图案曝光。其110×110mm加工幅面适配4英寸以内晶圆，配合实时激光控制与自动对焦功能，1秒即可完成对焦，特别适合高校实验室的微结构研发，将传统数小时的掩模制备流程缩短至分钟级。德国 Polos 是桌面级紫外激光直写光刻机领域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 为core定位。主打无掩模技术与紧凑设计，产品覆盖 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率达 0.3-23μm，适配多基材加工。广泛应用于微电子、生物医学等领域，为科研机构与中小企业提供高性价比微纳加工解决方案，推动技术普惠。POLOS µ 光刻机：微型化机身，纳米级曝光精度，微流体芯片制备周期缩短 40%。黑龙江德国POLOS桌面无掩模光刻机MAX层厚可达到10微米

成本效益：单次曝光成本低于传统光刻 1/3，小批量研发更经济。北京光刻机光源波长405微米

Polos-BESM在电子器件原型开发中展现高效性。例如，其软件支持GDS文件直接导入，多层曝光叠加功能简化了射频器件（如IDC电容器）的制造流程。研究团队利用同类设备成功制备了高频电路元件，验证了其在5G通信和物联网硬件中的潜力。无掩模光刻技术可以随意进行纳米级图案化，无需使用速度慢且昂贵的光罩。这种便利对于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上没有任何妥协的情况下，将该技术带到了桌面上，进一步提升了其优势。无掩模光刻技术可以随意进行纳米级图案化，无需使用速度慢且昂贵的光罩。这种便利对于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上没有任何妥协的情况下，将该技术带到了桌面上，进一步提升了其优势。北京光刻机光源波长405微米